[发明专利]磁场调节装置及等离子体加工设备

权利要求书

1.一种磁场调节装置，其通过调节在反应腔室内产生的磁场分布而使反应腔室内的等离子体分布均匀，其特征在于，所述磁场调节装置包括多个可产生磁场的环体，每个环体环绕设置在所述反应腔室的侧壁外侧；并且，所述多个环体沿反应腔室的水平方向上的数量为至少两个，和/或，沿反应腔室的竖直方向上的数量为至少两个。

2.根据权利要求1所述的磁场调节装置，其特征在于，每个所述环体包括多个磁体，所述多个磁体沿所述反应腔室的周向间隔设置。

3.根据权利要求2所述的磁场调节装置，其特征在于，在每个所述环体中的多个所述磁体沿所述反应腔室的周向均匀分布。

4.根据权利要求2所述的磁场调节装置，其特征在于，所述磁体为磁铁。

5.根据权利要求2所述的磁场调节装置，其特征在于，每个所述环体还包括环绕在所述反应腔室的侧壁外侧的环形背板，并且

沿所述环形背板周向间隔设置有多个固定部，每个所述固定部用于固定所述磁体，以使所述磁体固定在所述上层环形背板和下层环形背板之间。

6.根据权利要求5所述的磁场调节装置，其特征在于，所述环形背板采用导磁材料制成。

7.根据权利要求1所述的磁场调节装置，其特征在于，每个所述环体包括至少一匝线圈，所述线圈环绕在所述反应腔室的侧壁外侧；并且

所述磁场调节装置还包括与所述线圈电连接的直流电源，所述直流电源用于向所述线圈提供电流。

8.根据权利要求1所述的磁场调节装置，其特征在于，所述磁场调节装置还包括环绕在所述多个环体外围的保护罩，所述保护罩采用抗磁材料制成，用以屏蔽由所述多个环体产生的磁场对外界的干扰。

9.一种等离子体加工设备，包括反应腔室和磁场调节装置，所述磁场调节装置通过调节在反应腔室内产生的磁场分布而使反应腔室内的等离子体分布均匀，其特征在于，所述磁场调节装置采用权利要求1-8任意一项所述的磁场调节装置。

10.根据权利要求9所述的等离子体加工设备，其特征在于，在所述反应腔室内设置有承载装置和与之电连接的射频电源，所述承载装置用于承载被加工工件，所述射频电源用于向所述承载装置加载射频功率，以在所述承载装置周围形成等离子体；

所述磁场调节装置的位置与所述承载装置的位置相对应，用以通过调节在所述承载装置周围产生的磁场分布而使在所述承载装置周围形成的等离子体分布均匀。

11.根据权利要求10所述的等离子体加工设备，其特征在于，所述磁场调节装置对应于所述反应腔室的竖直方向上的距离不超过所述反应腔室竖直方向上的距离的1/3。