[发明专利]一种用于制备图形衬底的一体化湿法腐蚀设备

权利要求书

1.一种用于制备图形衬底的一体化湿法腐蚀设备，该设备包括：控制单元；图形衬底制备单元；其中，

控制单元主要为控制面板，包括：水路系统、风路系统、电力系统和酸腐废液排放系统；所述的控制单元的主要功能为：除对水路、风路、电力和酸排系统地控制外，还对图形衬底制备单元的控制，包括对酸腐蚀以及掩膜腐蚀的温度、时间控制程序设定；清洗模组程序设定，以及对设备辅助功能的控制及酸腐槽超温报警的控制；

图形衬底制备单元主要分为：高、低温酸腐模组，图形掩膜制备模组和清洗模组；

所述一体化湿法腐蚀设备主要包括如下部件：控制面板；高、低温酸性溶液腐蚀槽；BOE腐蚀槽；去离子水清洗槽；丙酮槽；氢氟酸腐蚀槽；挡板；槽体盖；排风系统；图形掩膜制备用特制腐蚀支架；

所述的控制面板，可对每个槽体进行独立操控，可显示每个槽体内液体的温度、腐蚀或清洗的时间；可设定对时间、温度的提醒功能；所述控制面板上设有每个槽体的时间和温度的控制模块及显示模块；

所述的高、低温酸性溶液腐蚀槽，把高温酸腐槽和低温酸腐槽放到同一个腐蚀大区，用挡板隔开；高、低温酸性溶液腐蚀槽温度可控为0°～350°；在样品进行图形酸腐时通过精确的控温以降低湿法腐蚀的难度，保证湿法腐蚀图形化衬底时的图形完整性；

所述的BOE腐蚀槽，位于另一腐蚀大区的左部；

所述的去离子水清洗槽，用以隔开BOE腐蚀槽与丙酮槽、氢氟酸腐蚀槽，能够更好地阻止各腐蚀的反应；其材料内壁平滑，不易挂污物；

所述的槽体盖，在所述的每个槽体上配备；

所述的电力系统，除了为本发明提供源源不断的电力支持正常运转外，亦可对每个槽体进行独立控制的模组提供与之相匹配的电力控制；

所述的排风系统，为负压抽气式排风装置，位于所述设备腐蚀区的上方及后方；可独立控制对风量大小进行调节；

所述的水路系统，用于对清洗晶片的、停止湿法腐蚀进程的去离子水的供给和排放；

所述的酸腐废液排放系统，用于对高低温酸腐蚀废液、BOE腐蚀废液及氢氟酸腐蚀废液单个的、单独地进行控制排放。

2.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述的高、低温酸性溶液腐蚀槽所选材料为石英、陶瓷、塑料或其他抗高温抗酸腐蚀材料；所述的BOE腐蚀槽体采用石英、陶瓷、塑料或其他能抗氢氟酸和氟化铵溶液的材料；所述的去离子水清洗槽材料为石英、陶瓷、塑料或其他能抗氢氟酸和氟化铵溶液的材料；所述的氢氟酸腐蚀槽，其材料为石英或能抗氢氟酸及其溶液的材料；所述的酸腐废液排放系统，采用石英或其他抗酸腐蚀材料。

3.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述的挡板，位于所述设备的中央，可手动升降或电动控制，把湿法腐蚀设备腐蚀区分为两个腐蚀大区，阻挡两个腐蚀大区液体间的影响；挡板厚度为0.5-10cm；挡板升起后高度1-60cm范围内，应超过另一腐蚀区槽体至少10cm；所述挡板为耐酸、抗碱材料。

4.如权利要求3所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述的挡板，选用透明材质的材料。

5.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述的图形掩膜制备用腐蚀支架，为非固定在设备上的、独立的与本发明所述一体化湿法腐蚀设备配套使用的个体；所述腐蚀支架由腐蚀托盘及托盘支架组成，所述腐蚀支架的底部为水平托盘，托盘的形状为圆形、椭圆形、方形或多边形，托盘沿盘直径两端做支撑，上端有手柄相连，且手柄上要有和手型相对应的防滑凹槽；托盘正面为按一定间距排列的容纳相应尺寸晶片的浅槽；腐蚀支架托盘上分布有贯穿托盘正反面的孔洞。

6.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述控制面板采用手套箱式操作面板，面板孔洞的大小应使整条手臂都能进入操作区进行湿法腐蚀操作；所述的操作面板材料选用抗酸且透明的材料；操作手套为橡胶手套或其他可抗腐蚀材料制作。

7.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述控制面板采用对开式操作保护面板或下拉式操作保护面板。

8.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，包括耐高低温的照明装置，位于设备腐蚀区的左右侧壁板中上方，光源外罩具有抗腐蚀性。

9.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述腐蚀槽全部设计为椭圆形；或者全部为矩形；或者丙酮槽、氢氟酸腐蚀槽为矩形，其余为椭圆形。

10.如权利要求1所述的一体化湿法腐蚀设备，其特征是，所述腐蚀槽的分布设计成直线平摊式，该设计方案中无挡板。