[发明专利]一种多电极线性可调节的MEMS电容器有效

专利信息
申请号: 201310323560.6 申请日: 2013-07-30
公开(公告)号: CN103440985A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 刘泽文;赵晨旭;李玲 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01G5/18 分类号: H01G5/18;B81C1/00
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 贾玉健
地址: 100084 北京市海淀区1*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电极 线性 调节 mems 电容器
【说明书】:

技术领域

发明属于射频微机电系统(RF MEMS)领域,具体涉及一种电容值线性可调节的MEMS电容器。

背景技术

射频微机电系统(RF MEMS)是用微加工工艺制作的,集微结构、微传感器、微执行器、信号处理和控制电路为一体的射频器件或系统,与传统固态器件相比,拥有显著的优势,例如功率耗散低、插入损耗小、可靠性高、品质因数高等。基于MEMS的开关和电容是射频应用中极为重要的元件,他们的机械结构能够对控制电路和信号电路进行隔离,并且防止射频信号对电容值产生调制作用,因此线性度很高。

电容元件广泛的应用于基于MEMS的器件中,例如可调滤波器、谐振器、传感器、可调天线等。常见的MEMS可调电容有两种基本形式,一种是调节上下电容极板间的间距来改变电容值,这种可调电容反应灵敏、Q值高、尺寸小,然而却有间距调节范围的限制,其上极板运动范围不能大于上下极板初始间距的三分之一,否则电容上极板会被迅速下拉,因此可调范围较小;另一种是调节电容的正对面积来改变电容值,典型的是应用插指状结构,通过改变指间正对面积来改变电容值,这种结构制作工艺复杂,电容值有限,电容的控制精度差。

发明内容

为了解决上述问题,本发明提出了一种电容值线性可调节的MEMS电容器,具有线性度高、变容范围大、可程控调节的特点。

为实现上述目的,本发明采取如下技术方案:

一种多电极线性可调节的MEMS电容器,包括:

介质衬底100;

设置于介质衬底100上的电容下极板300、第一锚点401、第二锚点402和多组控制电极,电容下极板300位于第一锚点401和第二锚点402之间,且相互分离,每组控制电极由对称分布于电容下极板300两侧的结构相同的a部分和b部分组成,a部分和b部分之间电气连接;

以及,

位于第一锚点401和第二锚点402上的电容上极板200。

所述第一锚点401和第二锚点402的高度不同,电容上极板200呈倾斜状态,沿电容上极板200倾斜下端向上端方向,对多组控制电极逐次加电压,每组控制电极上的电压均由低到高变化,使电容上极板200与电容下极板300之间的电容值呈近似线性的变化。在控制电极上施加控制电压时,电容上极板200在静电力作用下向电容下极板方向移动

所述相邻组的控制电极之间间距相等或者不相等。

所述控制电极为N组,N为正整数,控制电极上覆盖一层介质层,以实现与电容上极板200之间的电隔离。例如,所述N为10。

所述电容下极板300设置于电容上极板200的正下方中间位置,比电容上极板200小,电容下极板300上覆盖一层介质层,以实现与电容上极板200之间的电隔离。

所述第一锚点401和第二锚点402的高度相同,电容上极板200呈水平状态,沿电容上极板200中间向两端方向,对多组控制电极逐次加电压,每组控制电极上的电压均由低到高变化,使电容上极板200与电容下极板300之间的电容值呈近似线性的变化。

位于电容下极板300的中心部位有一组控制电极,其余各组控制电极沿该中心部位的控制电极对称,且相对称的两组控制电极之间电气连接。

本发明的优点是:电容上极板200呈倾斜状态,在控制电极上逐次加由小变大的电压时,电容上极板200由底端向高端逐渐下拉,可保证每一驱动电极在驱动时电容上极板200与驱动电极之间的初始间距均较小,以此保证每个控制电极上的下拉电压均处于一个较小的水平,减小了电荷注入发生的可能性,提高了器件可靠性,并且使电容器在将达到最大电容值时仍保持较好的线性度,扩大了可变电容的线性范围和变容比。

附图说明

图1为本发明的三维结构图。

图2为本发明的侧视图。

图3为本发明部分电极上施加下拉电压后的侧视图。

图4为本发明的工艺流程图。

图5为本发明结构的一个变形结构的三维结构图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作进一步详细说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310323560.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top