[发明专利]液晶显示器及其制造方法在审
申请号: | 201310325817.1 | 申请日: | 2013-07-30 |
公开(公告)号: | CN103809332A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 洪基表;金晒玹;朴载华;朴帝亨;宋荣九 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | G02F1/1341 | 分类号: | G02F1/1341;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩芳;王兆赓 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示器 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种液晶显示器(即,液晶显示装置)及其制造方法。
背景技术
液晶显示器通常包括具有场产生电极(例如像素电极和共电极)的两个面板以及设置在面板之间的液晶层。
液晶显示器可通过将电压施加到场产生电极来在液晶层中产生电场。电场可确定液晶层的液晶分子的方向,从而控制入射光的偏振,以控制显示的图像。
液晶显示器制造工艺可包括下面的步骤:利用光致抗蚀剂形成牺牲层;在将支撑构件涂覆到牺牲层上之后,通过蚀刻工艺去除牺牲层;以及通过注入孔将液晶填充至通过去除牺牲层而获得的空的空间中。典型地,该空的空间的高度不大。如果液晶注入孔被形成在该空的空间下方的其它组成元件部分地堵挡,则液晶注入会显著地困难并且耗时。
在本背景技术部分中公开的以上信息用于增强对本发明的背景的理解。背景技术部分可以包括在本国对于本领域普通技术人员来说未构成已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的实施例可以在液晶显示装置的制造中使得能够有效地形成液晶层,从而使制造时间最小化和/或使制造成本最小化。本发明的实施例可以在液晶显示装置中有效地密封液晶材料,以确保液晶显示装置的最佳性能。
本发明的一个或更多个实施例可涉及一种可以包括基底的液晶显示装置。液晶显示装置还可包括设置在基底上的像素电极。液晶显示装置还可包括与像素电极叠置的共电极,其中,液晶注入孔被形成为至少穿过共电极。液晶显示装置还可包括设置在像素电极和共电极之间的液晶层。液晶显示装置还可包括设置在液晶注入孔内的第一光阻挡元件。
可在形成液晶层之后形成第一光阻挡元件;因此,第一光阻挡元件可以不阻挡液晶层的形成。有利地,液晶层可以有效地形成,因此可使液晶显示装置的制造时间和/或制造成本最小化。第一光阻挡元件可防止漏光并可密封液晶注入孔,以防止液晶漏出。有利地,可使液晶显示装置的性能优化。
在一个或更多个实施例中,液晶显示装置可包括电连接到像素电极的晶体管。液晶显示装置还可包括电连接到晶体管并被构造为将栅极信号传输至晶体管的栅极线。第一光阻挡元件与栅极线平行地延伸并与晶体管叠置。
在一个或更多个实施例中,第一光阻挡元件设置在液晶层和第一部分与液晶层的第二部分之间。
在一个或更多个实施例中,液晶层的一部分设置在第一光阻挡元件与基底之间。
在一个或更多个实施例中,第一光阻挡元件与液晶层直接接触。
在一个或更多个实施例中,液晶显示装置可包括由与第一光阻挡元件的材料不同的材料(例如,透明材料)形成的封盖层。封盖层的第一部分设置在液晶注入孔中并且设置在第一光阻挡元件和液晶层之间。
在一个或更多个实施例中,第一光阻挡元件设置在封盖层的第二部分以及封盖层的第三部分之间。
在一个或更多个实施例中,封盖层的第二部分与封盖层的第三部分设置在共电极的第一部分与共电极的第二部分之间。
在一个或更多个实施例中,液晶显示装置可包括第二光阻挡元件。第二光阻挡元件直接连接到第一光阻挡元件并且与第一光阻挡元件基本垂直地延伸。
在一个或更多个实施例中,液晶显示装置可包括第二光阻挡元件。第一光阻挡元件相对于液晶层设置在第一侧。第二光阻挡元件相对于液晶层设置在第二侧,并且在液晶显示装置的平面图中,第二光阻挡元件与第一光阻挡元件基本垂直地延伸。
本发明的一个或更多个实施例可涉及一种制造液晶显示装置的方法。该方法可包括下述步骤:在基底上设置像素电极;在像素电极上设置牺牲层;在牺牲层上设置共电极;至少穿过共电极来形成液晶注入孔;通过液晶注入孔去除牺牲层,以形成腔体;通过液晶注入孔将液晶注入到腔体中,以形成液晶层;以及在注入的步骤之后,在液晶注入孔中设置第一光阻挡元件。
由于在已经注入液晶之后设置第一光阻挡元件,所以第一光阻挡元件可以不阻碍液晶的注入。有利地,可以有效地形成液晶层,因此可使液晶显示装置的制造时间和/或制造成本最小化。第一光阻挡元件可防止漏光并可密封液晶注入孔,以防止液晶漏出。有利地,可使液晶显示装置的性能优化。
在一个或更多个实施例中,该方法可包括下述步骤:设置与共电极部分地叠置的光致抗蚀剂图案;利用光致抗蚀剂图案作为形成液晶注入孔的掩模;以及在执行牺牲层的去除时去除光致抗蚀剂图案。
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