[发明专利]一种透明导电膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种透明导电膜，属于电子显示技术导电膜领域，尤其涉及一种用于触摸屏的透明导电膜。

背景技术

透明导电膜是具有良好导电性及在可见光波段具有高透光率的一种薄膜。目前透明导电膜已广泛应用于平板显示、光伏器件、触控面板和电磁屏蔽等领域，具有极其广阔的市场空间。

在触摸屏的制作领域，透明导电膜作为触摸屏中接收触摸等输入信号的感应元件，因此是保证和提升触摸屏性能的重要元件。目前，触摸屏中多使用ITO（氧化铟锡）薄膜，作为导电层的ITO层是透明导电膜中至关重要的组成部分。虽然触摸屏的制造技术一日千里的飞速发展着，但是以投射式电容屏为例，ITO层的基础制造流程近年来并未发生太大的改变，不可避免的需要在基底上形成ITO膜以及图形化。但是，铟是一种昂贵的金属材料，ITO膜作为导电层，很大程度上提升了触摸屏的成本，而且ITO导电层在图形化工艺中，需将整面ITO膜层通过掩膜蚀刻以形成图案，这样大量的ITO膜被蚀刻掉，也造成贵金属的严重浪费及污染。

另一方面，在设有双层导电层的透明导电膜的制作中，当导电膜中的双层导电层相互交叠时，二层导电层的网格交叠处的透过率比较低，会出现区域性对比差异，若将此种导电膜应用于触摸屏的上，会在触摸屏上出现阵列式的暗点。

发明内容

本发明所解决的主要技术问题，在于提供一种透明导电膜，通过设置双层导电层在相互交叠时，二者的导电线网格相交处的导电线线宽窄于二者未相交处的导电线线宽。从而实现双层导电线网格在交叠处的网格透过率和未交叠处网格处的透过率相差很小，避免了该导电膜用于触摸屏时产生阵列式的暗点的问题。

本发明提供了一种透明导电膜，包括：

至少一个基底；

呈叠加设置的第一导电层和第二导电层，且所述第一导电层和所述第二导电层均设置于所述基底上，且均为由导电线构成的网格状；其中，

所述第一导电层与所述第二导电层相互叠加设置时，二者的导电线网格位于相交处的导电线线宽窄于二者未相交处的导电线线宽。

在本发明的一个实施方式中，所述基底包括第一基底和第二基底，所述第一导电层和所述第二导电层分别设置于所述第一基底和所述第二基底上，且所述第一基底与所述第二基底通过未设置导电层的表面相互叠加设置为一体。进一步地，所述第一基底与第二基底通过粘合层结合为一体，具体地，所述粘合层为光学透明胶层。

上述具体实施方式，还可以在所述第一导电层与所述第一基底之间，及所述第二导电层与所述第二基底之间均设置有基质层。

本发明的另一个具体实施方式中，所述第一导电层和所述第二导电层分别设置于所述基底的相对面上。

上述具体实施方式，还可以在所述第一导电层和所述第二导电层与所述基底之间设置有基质层。

本发明的另一个具体实施方式中，所述第一导电层设于所述基底上，所述第二导电层同向叠加设置于所述第一导电层上，且所述第一导电层与所述第二导电层之间设置有绝缘层。

上述具体实施方式，还可以在所述第一导电层与所述基底之间设置有基质层。

在本发明的一种实施方式中，所述的导电层为网格状，其所述的网格状导电层可以通过向所述网格状凹槽中填充导电材料（导电浆液），然后烧结形成所述凹槽式导电层；还可以通过光刻刻蚀等方法在基底或基质层的表面形成凸起结构的导电层，其中，所述光刻刻蚀具体可以包括：在基底或基质层的表面涂布感光导电材料，然后通过遮光板进行曝光处理，经刻蚀，形成所述导电层。进一步地，所述导电线的材质（即所述导电材料）包括银、铜或导电聚合物。

本发明中所述基底的材质为热塑性树脂材料，所述热塑性材料为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯；所述基质层的材质为紫外光固化胶、压印胶或聚碳酸酯。

在本发明的一实施方式中，所述透明导电膜还具有透明保护层，用于防止透明导电膜被破坏，所述透明保护层为UV胶、压印胶或聚碳酸酯。

在本发明的一实施方式中，所述的透明导电膜还包括引线电极，所述引线电极与所述第一导电层、第二导电层电连接。本发明所使用的引线电极可以为网格状或线段状，且所述引线电极为通过丝网印刷、刻蚀、压印或喷墨打印等方式形成。

本发明相比于现有技术具有如下

1、本发明的透明导电膜采用了价格相对低廉的导电材料，其生产成本相对于ITO导电膜而言大大降低。