[发明专利]用于沉积的掩模和对准它的方法

说明书

技术领域

本发明的实施方式主要涉及用于沉积的掩模和对准它的方法，更具体地涉及用于沉积的掩模和能够精确地对准用于沉积的掩模和基板的对准它的方法。

背景技术

包括空穴注入电极、电子注入电极、设置在它们之间的有机发光层的有机发光二极管(OLED)显示装置为自发光类型的显示装置，所述装置在自阳极注入的空穴和自阴极注入的电子湮灭时发光，所述湮灭是由于空穴和电子在有机发光层中的再结合而造成的。此外，有机发光二极管(OLED)显示装置呈现高质量特性，例如更低的能耗、更高的亮度、更宽的视角和更高的反应速度，因而已经作为便携电子装置的下一代显示装置而被关注。

有机发光二极管(OLED)显示装置包括有机发光显示面板，所述有机发光显示面板包括其上形成薄膜晶体管和有机发光元件(OLED)的显示基板。所述有机发光元件包括阳极、阴极和有机发光层，并通过由分别从阳极和阴极注出的空穴和电子形成激子并使激子迁移至基态而发光。

在例如有机发光二极管(OLED)显示装置的平板显示装置中，在真空条件下使用用于沉积相应的材料，例如用作电极的有机材料或金属的真空沉积方法，以在平板上形成薄膜。通过在真空室内部放置其上形成有机薄膜的基板，并通过用沉积源单元蒸发或升华有机材料以便在所述基板上沉积，而进行真空沉积方法。

通过在基板上对准和贴附用于沉积的掩模，并进行控制以通过开放区域在基板上沉积用于形成蒸发的图案的材料而进行沉积过程，用于沉积的掩模包括与将在基板上形成的预定图案相对应的开放区域。在沉积过程中，在基板上无偏差地准确对准和贴附用于沉积的掩模是重要的。

然而，当所述基板为透明基板时，由于在通过测量装置进行测量时从掩模表面反射的光，对准的掩模之间，具体为角度对准标记(angle alignment mark)和基板（以及掩模）之间的对比差异小，因而难于确定所述角度对准标记的位置。

该背景部分公开的信息仅用于增强对所描述的技术的背景理解，因而可包含未形成为在这个国家中本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本发明的一个方面提供了用于沉积的掩模和对准它的方法，所述方法能够防止在基板和掩模间产生的对准偏差。

本发明的另一个方面提供了用于沉积的掩模和对准它的方法，所述方法能够增加形成在基板和掩模上的对准标记的识别率。

本发明的实施方式提供了用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模，所述掩模包括：具有掩模对准标记的掩模元件，所述掩模对准标记贯穿地形成，以便与在所述透明基板上形成的基板对准标记对准；和不平整区域，所述不平整区域形成在所述掩模元件的一个表面上，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域在它的表面上具有突起和凹陷。

所述不平整区域可漫反射入射光。

所述不平整区域可涂布有漫反射材料。

可所述不平整区域可以低于用于沉积的所述掩模的一个表面的高度形成。

所述不平整区域可通过半蚀法形成。

所述用于沉积的掩模可进一步包括在所述掩模对准标记和所述不平整区域之间形成的平坦区域，所述平坦区域具有平坦表面。

可沿所述掩模对准标记的边缘形成所述平坦区域。

所述平坦区域可反射入射光。

所述平坦区域可涂布有光反射材料。

本发明的另一个实施方式提供了对准掩模的方法，包括步骤：制备透明基板，所述透明基板具有在透明基板的一个表面上形成的基板对准标记及邻近所述基板对准标记的角度对准标记；在所述透明基板上放置用于沉积的掩模，所述掩模包括具有掩模对准标记的掩模元件和不平整区域，所述掩模对准标记贯穿地形成以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记，所述不平整区域形成在所述掩模元件的一个表面上以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域在它的表面上具有突起和凹陷，所述不平整区域面向所述透明基板；将所述基板对准标记和所述掩模对准标记在预定的位置对准；和对准所述角度对准标记，以使所述角度对准标记在与所述不平整区域重叠的同时被放置在预定的位置。

在对准所述位置或对准所述角度的步骤中，在通过面向所述不平整区域放置的测量装置测量对准状态后，可调节所述透明基板或用于沉积的所述掩模的对准位置。

所述测量装置可为安装有CCD相机的测量装置。

根据本发明的实施方式，可通过增加形成在所述基板和所述掩模上的对准标记的识别率来防止发生掩模的对准偏差。

结果，可通过降低有机发光二极管(OLED)显示装置的次品率而降低制造成本。