[发明专利]具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵有效

专利信息
申请号: 201310330740.7 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN104343687A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 倪诗茂 申请(专利权)人: 思科涡旋科技(杭州)有限公司
主分类号: F04C29/00 分类号: F04C29/00;F04C18/02
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 310051 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 具有 流体 平动 滑动 推力 轴承 密封 结构 涡旋 真空泵
【权利要求书】:

1.一种具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵,所述真空泵包括:

一固定涡卷;

一相对所述固定涡卷做绕动运动的绕动涡卷;

一位于所述固定涡卷外的涡卷基座;

一与所述涡卷基座面对面相连接的推力板,并且所述推力板的中央开设避空孔;

一曲轴,所述曲轴的偏心段贯穿所述推力板的避空孔并与所述绕动涡卷的背面相连接;以及

一曲轴基座,所述曲轴位于所述曲轴基座上,并且所述曲轴基座与所述推力板和所述涡卷基座固定连接;其特征在于,所述真空泵还包括:

一活塞后支座,所述活塞后支座通过轴承连接于所述曲轴靠近所述推力板的一侧的轴偏心段表面,所述活塞后支座的中央环形凸台可绕动地贯穿所述推力板的避空孔,并通过一活塞前支座与所述绕动涡卷的背面连接;所述活塞后支座的其余部分与所述推力板的径向端面相互靠近,并且所述活塞后支座正对所述推力板的径向端面开设若干等间距的第一环形凹槽;

一磁流体密封装置,所述磁流体密封装置包括永磁体和导磁体;所述永磁体置于所述活塞后支座的内部,并且正对若干所述第一环形凹槽;所述导磁体置于所述推力板的内部,并且正对所述永磁体;同时,所述导磁体与所述活塞后支座的径向端面之间的间隙内注有磁流液;

优选的,所述导磁体靠近所述磁流液的端面涂覆起到汇聚磁流液作用的厌磁流液涂层,所述厌磁流液涂层为聚四氟乙烯。

2.一种具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵,所述真空泵包括:

一固定涡卷;

一相对所述固定涡卷做绕动运动的绕动涡卷;

一位于所述固定涡卷外的涡卷基座;

一与所述涡卷基座面对面相连接的推力板,并且所述推力板的中央开设避空孔;

一曲轴,所述曲轴的偏心段贯穿所述推力板的避空孔并与所述绕动涡卷的背面相连接;以及

一曲轴基座,所述曲轴位于所述曲轴基座上,并且所述曲轴基座与所述推力板和所述涡卷基座固定连接;其特征在于,所述真空泵还包括:

一活塞后支座,所述活塞后支座通过轴承连接于所述曲轴靠近所述推力板的一侧的轴偏心段表面,所述活塞后支座的中央环形凸台可绕动地贯穿所述推力板的避空孔,并通过一活塞前支座与所述绕动涡卷的背面连接;所述活塞后支座的其余部分与所述推力板的径向端面相互靠近;

所述绕动涡卷正对所述涡卷基座的径向端面开设若干等间距的第二环形凹槽;一磁流体密封装置,所述磁流体密封装置包括永磁体和导磁体;所述永磁体置于所述绕动涡卷的内部,并且正对若干所述第二环形凹槽;所述导磁体置于所述涡卷基座的内部,并且正对所述永磁体;同时,所述导磁体与所述绕动涡卷的径向端面之间的间隙内注有磁流液;

优选的,所述导磁体靠近所述磁流液的端面涂覆起到汇聚磁流液作用的厌磁流液涂层,所述厌磁流液涂层为聚四氟乙烯。

3.根据权利要求1或2中任意一项所述具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵,其特征在于,相邻两所述第一环形凹槽之间的凸环的截面形状为矩形;或者相邻两所述第一环形凹槽之间的凸环的头部为圆角;或者相邻两所述第一环形凹槽之间的凸环的截面形状为三角形;或者相邻两所述第二环形凹槽之间的凸环的截面形状为矩形;或者相邻两所述第二环形凹槽之间的凸环的头部为圆角;或者相邻两所述第二环形凹槽之间的凸环的截面形状为三角形。

4.根据权利要求1或2中任意一项所述具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵,其特征在于,每一所述第一环形凹槽的深度和宽度均相同;或者每一所述第二环形凹槽的深度和宽度均相同。

5.根据权利要求1或2中任意一项所述具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵,其特征在于,所述活塞后支座的径向端面上向外凸起形成一第一环形挡圈,并且若干所述第一环形凹槽位于所述第一环形挡圈之内;或者所述绕动涡卷的径向端面上向外凸起形成一第二环形挡圈,并且若干所述第二环形凹槽位于所述第二环形挡圈内。

6.根据权利要求5所述具有磁流体平动滑动推力轴承及密封结构的涡旋真空泵,其特征在于,所述第一环形挡圈的高度低于所述导磁体与所述活塞后支座的径向端面之间的间隙;所述第二环形挡圈的高度低于所述导磁体与所述绕动涡卷的径向端面之间的间隙。

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