[发明专利]一种能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料

权利要求书

1.一种能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料，其特征在于，由包括以下重量百分比的原料制成：三氧化二铝粉末40-90，玻璃粉0.1-10，无机添加剂0.1-10，有机载体9.8-50。

2.根据权利要求1所述的能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料，其特征在于：所述玻璃粉选自铅-硼-硅酸盐、锌-硼-硅酸盐、铋-硼-硅酸盐中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料，其特征在于：所述无机添加剂选自Ca、Mg、Bi、Zn、Ag、Ta、Ti、Mn、Ru、Rh元素中的氧化物。

4.根据权利要求1所述的能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料，其特征在于：所述有机载体为高分子树脂和有机溶剂的混合物，高分子树脂与有机溶剂的质量比为(0.1-1)∶10。

5.根据权利要求4所述的能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料，其特征在于：所述高分子树脂选自纤维素、PMA、松香树脂中的一种或多种；有机溶剂选自松油醇、醇脂、脂肪醇、乙二醇中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的能够在太阳能硅片上生成绝缘层的厚膜浆料，其特征在于：所述三氧化二铝粉末为粒径为0.1-10微米或0.001-0.1微米，或为二者的混合物。