[发明专利]波导结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201310346904.5 申请日: 2013-08-09
公开(公告)号: CN104216046A 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 曾俊豪;郭英颢;陈海清;包天一 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G02B6/122 分类号: G02B6/122;G02B6/13;G02B6/42
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 波导 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种波导结构,包括:

衬底,所述衬底具有互连区域和波导区域;

沟槽,形成在所述衬底中,所述沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部;

底部覆层,形成在所述衬底上,所述底部覆层从所述互连区域延伸至所述波导区域,并且所述底部覆层充当所述互连区域中的绝缘层;以及

金属层,形成在所述倾斜的侧壁表面上的所述底部覆层上。

2.根据权利要求1所述的波导结构,还包括:

核心层,形成在所述波导区域中的所述底部覆层上;以及

顶部覆层,形成在所述核心层上,所述波导结构由所述底部覆层、所述核心层和所述顶部覆层形成。

3.根据权利要求1所述的波导结构,其中,所述核心层的折射率大于所述底部覆层的折射率,并且折射率的差在约0.02至约0.2之间的范围内。

4.根据权利要求1所述的波导结构,其中,所述金属层包括铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)或它们的组合。

5.根据权利要求1所述的波导结构,其中,所述倾斜的侧壁表面的倾角的范围在约42度至48度之间。

6.根据权利要求1所述的波导结构,其中,所述金属层还形成在所述互连区域中的所述底部覆层上。

7.根据权利要求6所述的波导结构,还包括:

再分布层(RDL),形成在所述互连区域中的所述金属层上。

8.根据权利要求1所述的波导结构,其中,所述底部覆层的厚度范围在约1μm至约10μm之间。

9.一种电-光器件,包括:

衬底,所述衬底具有互连区域和波导区域,并且所述波导区域具有反射区域和波传播区域;

沟槽,形成在所述波导区域中的所述衬底中;

底部覆层,形成在所述衬底上,所述底部覆层从所述互连区域穿过所述反射区域延伸至所述波传播区域,并且所述底部覆层充当所述互连区域中的绝缘层;

金属层,形成在所述反射区域中的所述底部覆层上;

激光二极管,安装在所述衬底上;以及

光电二极管,安装在所述衬底上。

10.一种制造波导结构的方法,包括:

提供衬底,所述衬底具有互连区域区和波导区域;

在所述衬底中形成沟槽,所述沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部;

在所述互连区域和所述波导区域中的所述衬底上形成底部覆层;以及

在所述倾斜的侧壁表面上的所述底部覆层上形成金属层。

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