[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法在审
申请号: | 201310349445.6 | 申请日: | 2013-08-12 |
公开(公告)号: | CN103824964A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 郑仁永 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;王秀君 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法 | ||
本申请要求在2012年11月19日提交到韩国知识产权局的第10-2012-0131117号韩国专利申请的优先权和权益,通过引用将该申请的全部公开内容包含于此。
技术领域
本发明的实施例涉及一种有机发光显示装置以及该有机发光显示装置的制造方法,更具体地,涉及一种具有用于减小或防止对电极处的电压降的结构的有机发光显示装置以及该有机发光显示装置的制造方法。
背景技术
通常,有机发光显示装置具有堆叠结构,在该堆叠结构中发光层位于像素电极(阳极)和对电极(阴极)之间。当分别从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射光的发光层复合时,形成颜色。
这样的有机发光显示装置的单元像素具有包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素的子像素,通过三种颜色的子像素的组合来形成期望的颜色。换言之,每个子像素具有如下结构:发射红色、绿色和蓝色中的一种颜色的发光层位于两个电极之间,通过适当地组合三种颜色的光来形成单元像素的颜色。
另外,对电极通常形成为覆盖所有子像素的薄金属膜。然而,因为金属膜的厚度与金属膜的电阻成反比,所以由于对电极的高电阻而经常发生电压降。因此,可能难以形成清晰的图像,并且具有这种结构的有机发光显示器的可靠性低。因此,有必要解决这些问题。
发明内容
本发明的实施例提供了一种具有用于减小或防止对电极处的电压降的结构的有机发光显示装置以及制造该有机发光显示装置的方法。
根据本发明的实施例的一个方面,提供了一种有机发光显示装置,所述有机发光显示装置包括:子像素,包括像素电极、对电极以及像素电极和对电极之间的发光层;平坦化层,覆盖对电极;以及辅助电极,位于平坦化层中并结合到对电极。
平坦化层的与对电极背对的一侧可以限定槽,平坦化层中的贯穿孔可以从所述槽向对电极穿过平坦化层延伸,辅助电极可以位于所述槽和贯穿孔中。
辅助电极可以包括银(Ag)。
平坦化层可以包括有机层。
根据本发明的另一个方面,提供了一种制造有机发光显示装置的方法,所述方法包括:在基板上形成子像素,每个子像素包括像素电极、对电极以及像素电极和对电极之间的发光层;在对电极的上方形成平坦化层;以及在平坦化层中形成辅助电极,辅助电极结合到对电极。
形成辅助电极可以包括:在平坦化层中形成槽和贯穿孔;以及用辅助电极填充所述槽和贯穿孔,以使对电极结合到辅助电极。
形成所述槽和贯穿孔可以包括:使用包括完全曝光部分、半曝光部分以及遮蔽部分的掩模来选择性地去除平坦化层的一个或多个部分,贯穿孔可以处于与完全曝光部分对应的区域中,所述槽可以处于与半曝光部分对应的区域中。
形成辅助电极可以包括:在平坦化层的表面上沉积材料;通过在所述材料的与所述槽和贯穿孔对应的部分上辐射激光以熔化所述材料的所述部分来填充所述槽和贯穿孔;以及去除所述材料的除了所述材料的与所述槽和贯穿孔对应的部分之外的剩余部分。
辅助电极可以包括银(Ag)。
平坦化层可以包括有机层。
因此,按照根据本发明的实施例的有机发光显示装置以及该有机发光显示装置的制造方法,可以穿过平坦化层将辅助电极结合到对电极来有效地减小电压降,从而改善有机发光显示装置的可靠性。
附图说明
通过参照附图对本发明的示例性实施例进行详细描述,本发明实施例的上述和其他方面将变得更加明显,在附图中:
图1是示出了根据本发明的实施例的有机发光显示装置的剖视图;以及
图2A至图2E是示出了图1的有机发光显示装置的制造工艺的剖视图。
具体实施方式
如这里所使用的,术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个项的任一个和所有组合。
在下文中,将参照附图详细地描述本发明的示例性实施例。
图1是示出了根据本发明的实施例的有机发光显示装置的剖视图。如图1中所示,根据本实施例的有机发光显示装置包括基板100、形成在基板100上的显示单元200以及覆盖显示单元200的包封层300。
显示单元200包括薄膜晶体管(TFT)220、电容器230以及有机发光器件210。图1示出了有机发光显示装置的显示单元200的子像素,可以在基板100上以行和列布置多个这样的子像素。
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