[发明专利]平板显示器及其柔性基板和制作方法有效

专利信息
申请号: 201310349890.2 申请日: 2013-08-12
公开(公告)号: CN104377165B 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 黄添旺;吴建霖 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 黄嵩泉,吕俊清
地址: 201500 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 平板 显示器 及其 柔性 制作方法
【权利要求书】:

1.一种柔性基板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一支撑板;

在所述支撑板的一侧涂布第一柔性层;

在所述第一柔性层与所述支撑板相异的一侧上形成阻挡层,所述阻挡层由多层堆叠沉积的有机薄膜和无机薄膜交替组成;以及

在所述阻挡层与所述第一柔性层相异的一侧上涂布第二柔性层,所述第二柔性层与所述第一柔性层包覆所述阻挡层,

其中,所述第一柔性层与所述支撑板通过机械力离型,所述阻挡层的应力参数为5至200兆帕。

2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述支撑板为玻璃支撑板。

3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一柔性层与第二柔性层是相同的高透光可耐高温的材料。

4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述高透光可耐高温材料是如下材料中的一种:

聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET);

聚异戊二烯(PI);

聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);

聚苯醚砜(PES);或者

聚碳酸酯(PC)。

5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,

所述无机薄膜是由以下材料中的一种制成:

氮化硅;

氧化硅;

氮氧化硅;或者

氧化铝,

所述有机薄膜是由以下材料中的一种制成:

四乙氧基硅;

六甲基二硅氧烷;

六甲基二硅氮烷;

八甲基环四硅氧烷;

碳氧化硅;或者

碳氮化硅。

6.根据权利要求1-5任一项所述的制作方法,其特征在于,所述柔性基板用于有机发光显示器。

7.根据权利要求1-5任一项所述的制作方法,其特征在于,所述第一柔性层的厚度为10至100微米,所述第二柔性层的厚度为10至100微米。

8.一种柔性基板,其特征在于,包括:

支撑板;

第一柔性层,涂布在所述支撑板一侧,所述第一柔性层与所述支撑板通过机械力离型;

多层堆叠沉积的有机薄膜和无机薄膜交替组成的阻挡层,形成于所述第一柔性层与所述支撑板相异的一侧,所述阻挡层的应力参数为5至200兆帕;以及

第二柔性层,涂布在所述阻挡层与所述第一柔性层相异的一侧,并与第一柔性层形成包覆所述阻挡层的结构。

9.根据权利要求8所述的柔性基板,其特征在于,所述支撑板为玻璃支撑板。

10.根据权利要求8所述的柔性基板,其特征在于,所述第一柔性层与第二柔性层是相同的高透光可耐高温的材料。

11.根据权利要求10所述的柔性基板,其特征在于,所述高透光可耐高温材料是如下材料中的一种:

聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET);

聚异戊二烯(PI);

聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);

聚苯醚砜(PES);或者

聚碳酸酯(PC)。

12.根据权利要求8所述的柔性基板,其特征在于,

所述无机薄膜是由以下材料中的一种制成:

氮化硅;

氧化硅;

氮氧化硅;或者

氧化铝,

所述有机薄膜是由以下材料中的一种制成:

四乙氧基硅;

六甲基二硅氧烷;

六甲基二硅氮烷;

八甲基环四硅氧烷;

碳氧化硅;或者

碳氮化硅。

13.根据权利要求8-12任一项所述的柔性基板,其特征在于,所述柔性基板用于有机发光显示器。

14.根据权利要求8-12任一项所述的柔性基板,其特征在于,所述第一柔性层的厚度为10至100微米,所述第二柔性层的厚度为10至100微米。

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