[发明专利]平板显示器及其柔性基板和制作方法有效
申请号: | 201310349890.2 | 申请日: | 2013-08-12 |
公开(公告)号: | CN104377165B | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 黄添旺;吴建霖 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L27/12;H01L27/32 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 黄嵩泉,吕俊清 |
地址: | 201500 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 显示器 及其 柔性 制作方法 | ||
1.一种柔性基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一支撑板;
在所述支撑板的一侧涂布第一柔性层;
在所述第一柔性层与所述支撑板相异的一侧上形成阻挡层,所述阻挡层由多层堆叠沉积的有机薄膜和无机薄膜交替组成;以及
在所述阻挡层与所述第一柔性层相异的一侧上涂布第二柔性层,所述第二柔性层与所述第一柔性层包覆所述阻挡层,
其中,所述第一柔性层与所述支撑板通过机械力离型,所述阻挡层的应力参数为5至200兆帕。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述支撑板为玻璃支撑板。
3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一柔性层与第二柔性层是相同的高透光可耐高温的材料。
4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述高透光可耐高温材料是如下材料中的一种:
聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET);
聚异戊二烯(PI);
聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);
聚苯醚砜(PES);或者
聚碳酸酯(PC)。
5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,
所述无机薄膜是由以下材料中的一种制成:
氮化硅;
氧化硅;
氮氧化硅;或者
氧化铝,
所述有机薄膜是由以下材料中的一种制成:
四乙氧基硅;
六甲基二硅氧烷;
六甲基二硅氮烷;
八甲基环四硅氧烷;
碳氧化硅;或者
碳氮化硅。
6.根据权利要求1-5任一项所述的制作方法,其特征在于,所述柔性基板用于有机发光显示器。
7.根据权利要求1-5任一项所述的制作方法,其特征在于,所述第一柔性层的厚度为10至100微米,所述第二柔性层的厚度为10至100微米。
8.一种柔性基板,其特征在于,包括:
支撑板;
第一柔性层,涂布在所述支撑板一侧,所述第一柔性层与所述支撑板通过机械力离型;
多层堆叠沉积的有机薄膜和无机薄膜交替组成的阻挡层,形成于所述第一柔性层与所述支撑板相异的一侧,所述阻挡层的应力参数为5至200兆帕;以及
第二柔性层,涂布在所述阻挡层与所述第一柔性层相异的一侧,并与第一柔性层形成包覆所述阻挡层的结构。
9.根据权利要求8所述的柔性基板,其特征在于,所述支撑板为玻璃支撑板。
10.根据权利要求8所述的柔性基板,其特征在于,所述第一柔性层与第二柔性层是相同的高透光可耐高温的材料。
11.根据权利要求10所述的柔性基板,其特征在于,所述高透光可耐高温材料是如下材料中的一种:
聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET);
聚异戊二烯(PI);
聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);
聚苯醚砜(PES);或者
聚碳酸酯(PC)。
12.根据权利要求8所述的柔性基板,其特征在于,
所述无机薄膜是由以下材料中的一种制成:
氮化硅;
氧化硅;
氮氧化硅;或者
氧化铝,
所述有机薄膜是由以下材料中的一种制成:
四乙氧基硅;
六甲基二硅氧烷;
六甲基二硅氮烷;
八甲基环四硅氧烷;
碳氧化硅;或者
碳氮化硅。
13.根据权利要求8-12任一项所述的柔性基板,其特征在于,所述柔性基板用于有机发光显示器。
14.根据权利要求8-12任一项所述的柔性基板,其特征在于,所述第一柔性层的厚度为10至100微米,所述第二柔性层的厚度为10至100微米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造