[发明专利]抗气蚀性环境隔离涂层无效
申请号: | 201310352389.1 | 申请日: | 2013-08-14 |
公开(公告)号: | CN103587156A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | R.达斯 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B18/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 童春媛;林森 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气蚀 环境 隔离 涂层 | ||
1. 一种用于含硅基底的环境隔离涂层系统,所述环境隔离涂层系统包含:
在含硅基底上的粘合涂层,所述粘合涂层包含硅和至少一种包含元素钛的掺杂材料,所述掺杂材料以足够提高粘合涂层的抗脱层性和抗气蚀性的量位于粘合涂层内的晶粒间界处;和
在粘合涂层上的至少一个陶瓷环境隔离层。
2. 权利要求1的环境隔离涂层系统,其中元素钛以约5%重量至约15%重量的量存在于粘合涂层中。
3. 权利要求1的环境隔离涂层系统,其中含硅基底包含陶瓷基质复合材料。
4. 权利要求1的环境隔离涂层系统,其中掺杂材料以至少10%重量的量位于粘合涂层的晶粒间界处。
5. 权利要求1的环境隔离涂层系统,其中含硅基底为燃气涡轮机的组件。
6. 权利要求1的环境隔离涂层系统,其中粘合涂层具有约2.6ppm/℃至约4.0ppm/℃之间的热膨胀系数。
7. 一种制品,所述制品包含:
含硅基底;和
在含硅基底上的环境隔离涂层系统,所述环境隔离涂层系统包含:
在含硅基底上的粘合涂层,所述粘合涂层包含硅和至少一种包含元素钛的掺杂材料,所述掺杂材料以足够提高粘合涂层的抗脱层性和抗气蚀性的量位于粘合涂层内的晶粒间界处;和
在粘合涂层上的至少一个陶瓷环境隔离层。
8. 权利要求7的制品,其中元素钛以约5%重量至约15%重量的量存在于粘合涂层中。
9. 权利要求7的制品,其中含硅基底包含陶瓷基质复合材料。
10. 权利要求7的制品,其中掺杂材料以至少10%重量的量位于粘合涂层的晶粒间界处。
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