[发明专利]内掩式透射地基日冕仪成像系统

权利要求书

1.内掩式透射地基日冕仪成像系统，其特征在于，包括按照太阳光入射镜筒（1）后的先后顺序安装在镜筒（1）内的光轴上的入射口径光阑（2）、物镜（3）、内掩体（4）、场镜（5）、Lyot光阑（7）、Lyot斑（6）和中继镜组（8）；

所述入射口径光阑（2）位于所述物镜（3）第一表面位置，所述內掩体位于所述物镜（3）的成像焦面位置，Lyot光阑（7）位于入射孔径光阑经过物镜（3）的成像焦面位置，所述Lyot斑（6）位于场镜（5）的成像焦面位置；

太阳光束经物镜（3）聚焦后经内掩体（4）遮蔽太阳光球层的阳光，得到的光束经场镜（5）和中继镜组（8）成像在像面CCD（9）上。

2.根据权利要求1所述的内掩式透射地基日冕仪成像系统，其特征在于，所述入射口径光阑（2）面与所述Lyot光阑（7）面互为共轭面。

3.根据权利要求1所述的内掩式透射地基日冕仪成像系统，其特征在于，所述的內掩体和Lyot斑（6）在光路光轴上，遮掩太阳直射光进入光学系统和物镜（3）二次反射形成的鬼影。