[发明专利]一种花炮外筒组合体无效

专利信息
申请号: 201310353903.3 申请日: 2013-08-14
公开(公告)号: CN103363846A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 陶松林 申请(专利权)人: 陶松林
主分类号: F42B4/04 分类号: F42B4/04
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 潘传军
地址: 410300 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 花炮 组合
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种整体模压成型的花炮外筒组合体。

背景技术

传统组合烟花由多个纸质单筒发射管组装而成。近年来出现的一种整体结构的花炮外筒组合体,该组合体通过模压成型的方式设置若干管状发射孔,用管状发射孔代替传统组合烟花的发射管,管状发射孔内置发射烟火药物以及效果件。该种组合体由于较高的生产效率和有利于标准化生产而逐渐引起企业的重视。但是,该组合体的发射孔的耐压性能低于传统组合烟花的发射管,在使用中容易出现炸筒现象,亟需得到解决。

发明内容

为了解决上述弊端,本发明所要解决的技术问题是,提供一种具有较高结构强度的花炮外筒组合体,能够杜绝炸筒现象的发生。为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是,一种花炮外筒组合体,组合体上设置若干管状发射孔,其特征在于,所述组合体的四周外壁均匀分布至少一圈防爆孔,所述防爆孔的轴线与发射孔的轴线平行并列设置。

本发明的有益效果在于,采用上述技术方案,设置在周边的防爆孔内不装填发射药物和效果件。能够有效吸收、缓解发射孔中火药燃爆气体的径向压力,杜绝炸筒现象的发生。尤其是在组合体中纸浆含量较高的情况下,其环保性虽然得到了有效提高,但是抗压性能降低,采用本技术方案更有重要的技术意义。

优选地,所述防爆孔的深度与发射孔的深度相同。以确保防炸筒效果。

优选地,所述防爆孔的孔径小于所述发射孔。所述防爆孔的孔径可以对应发射孔的孔径设置,即发射孔越大,防爆孔越大。

作为一种改进,所述组合体底部设有串接所有发射孔底部的引线槽,所述引线槽的槽顶直接贯通所述发射孔的底部。现有的组合体的引线槽都是通过引火孔连通引线槽和发射孔底部,在引线槽上胶固定时容易堵塞引火孔导致传火失败。引线槽的槽顶直接贯通所述发射孔的底部能够有效避免上述情况的出现,同时引线安装更为方便可靠。

为便于安装及固定,作为上述改进的优选方案,所述引线槽的横截面形状为梯形,与所述发射孔的底部直接贯通的引线槽的槽顶宽度较小,引线槽的底部开口宽度较大。作为进一步的优选,所述槽顶宽度为2.35~2.85mm,所述引线槽的底部开口宽度为2.6~3.1mm。进一步地,所述槽顶宽度为2.35mm,所述引线槽的底部开口宽度为2.6mm。

作为上述改进的另一种优选方案,所述引线槽设置在靠近发射孔圆周侧边处。引线槽的位置离发射孔的圆心越近,两个发射孔之间的连接引线的长度越短,两次发射之间的间隔时间也越短,靠近发射孔圆周侧边能有效延长两次发射之间的间隔时间。优选地,所述引线槽槽顶的外侧边与对应发射孔的圆周侧边的距离是2mm。该距离的定义如下:所述发射孔的截面圆的一条直径垂直于所述引线槽槽顶的外侧边,该直径与截面圆周的交点为C,与外侧边的交点为D,CD之间的长度为所述的距离,即CD=2mm。

下面将结合附图和具体实施方式对本发明做进一步说明。

附图说明

图1为本发明具体实施例组合体俯视结构示意图;

图2为本发明具体实施例组合体仰视结构示意图;

图3为A-A面剖视结构示意图;

图4为B部分放大结构示意图。

具体实施方式

参见附图,反映本发明的一种具体结构,所述花炮外筒组合体为36发产品,整体呈圆角方块形。组合体上设置三十六个管状发射孔1,所述组合体的四周外壁均匀分布一圈防爆孔2,所述防爆孔2的轴线与发射孔1的轴线平行并列设置,防爆孔2的深度与发射孔1的深度相同。所述防爆孔2的孔径小于所述发射孔1,所述防爆孔2的孔径可以随着发射孔1的孔径的增大而增大。

所述组合体底部设有串接所有发射孔1底部的引线槽3,所述引线槽3的槽顶31直接贯通所述发射孔1的底部11。

所述引线槽3的横截面形状为梯形,槽顶31宽度较小为2.35mm,引线槽3的底部开口32宽度较大为2.6mm。其较优的取值范围是:底部开口32宽度为2.6~3.1mm;槽顶31宽度为2.35~2.85mm。

所述引线槽3设置在靠近发射孔1的圆周侧边12处。所述引线槽3的槽顶31的外侧边311与对应发射孔1的圆周侧边12的距离是2mm。

本发明描述的上述实现方式仅是为了清楚的说明本发明的技术方案,而不能理解为对本发明作出任何限制。本发明在本技术领域具有公知的多种替代或者变形,如组合体的形状除实施例所述的方形外,还可以是六边形,圆形、三角形等多种形状,均可在其四周外壁上设置至少一圈防爆孔。在不脱离本发明实质意义的前提下,均落入本发明的保护范围。

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