[发明专利]触摸屏金属架桥周边确定位置短路金属残留的去除方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种触摸屏短路的解决方法，特别是涉及一种触摸屏金属架桥周边确定位置短路金属残留的去除方法。

背景技术

在采用搭桥结构的电容触摸屏生产过程中，有时会出现电容两极短路的质量不良问题。究其原因，通常是由于触摸屏金属架桥周边确定位置存在金属残留，并且该金属残留将触摸屏电容的X向极板和Y向极板导通。目前，对于这种质量不良，将直接导致触摸屏报废，给企业造成损失。大尺寸触摸屏尤其明显。

发明内容

本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种触摸屏金属架桥周边确定位置短路金属残留的去除方法，该方法能够去除触摸屏金属架桥周边确定位置短路金属残留，使触摸屏电容两极彼此绝缘，从而解决触摸屏电容两极短路的质量不良问题。

本发明为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种触摸屏金属架桥周边确定位置短路金属残留的去除方法，包括以下步骤：

一）采用检测设备确定存在短路不良的电容触摸屏金属架桥周边金属残留的位置；

二）将电容触摸屏返回其绝缘光阻PI黄光制程，并按照如下步骤操作：

1）首先在金属架桥及其周边金属残留表面上涂布正性光阻；

2）然后将该电容触摸屏用其绝缘光阻PI黄光制程的靶标固定在曝光机台面上；

3）在曝光环节根据金属残留的延伸方向，且沿与金属架桥垂直的方向偏移用于绝缘光阻曝光的光罩，使金属架桥处于被曝光机光源照射的区域内且金属残留处于被遮掩的区域内曝光；

4）显影去掉位于金属残留上的正性光阻；

三）刻蚀去掉金属残留；

四）剥膜去掉剩下的正性光阻，剥膜完毕即可得到架桥合格的良品。

本发明具有的优点和积极效果是：通过将金属架桥周边存在金属残留不良的电容触摸屏返回其绝缘光阻PI涂布黄光制程，并采用在金属架桥及其周边金属残留上涂布一层正性光阻，在曝光环节通过向金属残留位置偏移光罩，使金属架桥上的正性光阻曝光后显影保留，去掉金属残留上的正性光阻，进而通过刻蚀去掉使触摸屏电容两极导通的金属残留，使触摸屏电容两极达到彼此绝缘的设计要求，剥膜去掉剩下的正性光阻，将不良品修复为良品。无需报废，能够大大减少因不良品而产生的损失。尤其是大尺寸触摸屏，经济效益尤其明显。

附图说明

图1为电容触摸屏金属架桥周边存在金属残留的结构示意图；

图2为金属架桥周边存在金属残留的电容触摸屏返回其绝缘光阻涂布黄光制程并涂布正性光阻后，在偏移光罩下曝光的示意图；

图3为修复后良品金属架桥的示意图。

图中：1、Y向电容电极，2、X向电容电极，3、绝缘光阻PI，4、金属架桥，5、金属残留，6、被遮掩的区域。

具体实施方式

为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下：

一）采用检测设备确定存在短路不良的电容触摸屏金属架桥周边金属残留的位置：

请参阅图1，采用搭桥结构的电容触摸屏上形成有ITO图案，其中有连续的X向电容电极2和间断的Y向电容电极1，在X向电容电极2和Y向电容电极1之间涂布有绝缘光阻PI3，在绝缘光阻PI3上有金属架桥4，金属架桥4连接相邻的两个Y向电容电极段，使它们导通，完成金属架桥4的制程后，检测发现存在X向电容电极2和Y向电容电极1短路不良，进一步的检测结果为：在金属架桥4的右侧存在金属残留5，使Y向电容电极1和X向电容电极2短路。采用放大镜检查或用自动光学检查仪A.O.I自动扫描确定金属残留5的位置。

二）将电容触摸屏返回其绝缘光阻PI的黄光制程，其中PI—PASSIVATION INSULATION，并按照如下步骤操作：

1）首先在金属架桥4及其周边金属残留5的表面上涂布正性光阻，通常是整个表面都有涂布。

2）然后将该电容触摸屏用其绝缘光阻PI3黄光制程的靶标固定在曝光机台面上；

3）在曝光环节根据金属残留5的延伸方向，且沿与金属架桥4垂直的方向偏移用于该电容触摸屏绝缘光阻3曝光的光罩，使金属架桥4处于被曝光机光源照射的区域内且金属残留5处于被遮掩的区域6内曝光，请参见图2；

4）显影去掉位于金属残留4上的正性光阻，在产品表面形成凹孔，金属残留4裸露在凹孔内；

三）刻蚀去掉金属残留4，Y向电容电极1和X向电容电极2断开，处于相互绝缘状态；

四）剥膜去掉剩下的正性光阻，剥膜完毕即可得到金属架桥4合格的良品，请参见图3。