[发明专利]面内网孔结构石墨烯及其制备方法有效
申请号: | 201310355213.1 | 申请日: | 2013-08-14 |
公开(公告)号: | CN103395778A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 肖生强;芦露华;彭丽芬;詹春 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 崔友明 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 网孔 结构 石墨 及其 制备 方法 | ||
1.面内网孔结构石墨烯,其为以下制备方法得到的产物,包括有以下步骤:
1)将氧化石墨1份,氧化剂2~50份,在50~500瓦,25-80kHz频率超声波辐射条件下,水浴处理,过滤收集,用去离子水分散所得固体,反复过滤收集1~10次,然后在-60~180摄氏度真空干燥,得到面内网孔结构石墨烯氧化物;
2)向面内网孔结构石墨烯氧化物中加入0.1~10份还原剂进行水浴处理,还原得到面内网孔结构石墨烯。
2.按权利要求1所述的面内网孔结构石墨烯,其特征在于步骤1)所述的水浴处理是指在0~80℃水浴下处理10~480分钟。
3.按权利要求1或2所述的面内网孔结构石墨烯,其特征在于步骤2)所述的水浴处理是指在95℃水浴下处理5分钟~24小时。
4.按权利要求3所述的面内网孔结构石墨烯,其特征在于所述的氧化剂为硝酸、高锰酸钾、重铬酸钾和过氧化氢中的任意一种或它们的混合。
5.按权利要求3所述的面内网孔结构石墨烯,其特征在于所述的还原剂为硼氢化钠、水合肼、乙二胺、硫代硫酸钠、葡萄糖、亚硫酸钠和硫酸亚铁中的任意一种或它们的混合。
6.权利要求1所述的面内网孔结构石墨烯的制备方法,包括有以下步骤:
1)将氧化石墨1份,氧化剂2~50份,在50~500瓦,25-80kHz频率超声波辐射条件下,水浴处理,过滤收集,用去离子水分散所得固体,反复过滤收集1~10次,然后在-60~180摄氏度真空干燥,得到面内网孔结构石墨烯氧化物;
2)向面内网孔结构石墨烯氧化物中加入0.1~10份还原剂进行水浴处理,还原得到面内网孔结构石墨烯。
7.按权利要求6所述的面内网孔结构石墨烯的制备方法,其特征在于步骤1)所述的水浴处理是指在0~80℃水浴下处理10~480分钟。
8.按权利要求6或7所述的面内网孔结构石墨烯的制备方法,其特征在于步骤2)所述的水浴处理是指在95℃水浴下处理5分钟~24小时。
9.按权利要求8所述的面内网孔结构石墨烯的制备方法,其特征在于所述的氧化剂为硝酸、高锰酸钾、重铬酸钾和过氧化氢中的任意一种或它们的混合。
10.按权利要求8所述的面内网孔结构石墨烯的制备方法,其特征在于所述的还原剂为硼氢化钠、水合肼、乙二胺、硫代硫酸钠、葡萄糖、亚硫酸钠和硫酸亚铁中的任意一种或它们的混合。
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