[发明专利]一种巯基苯并噻唑取代的苊并杂环类化合物及其应用有效

专利信息
申请号: 201310357199.9 申请日: 2013-08-15
公开(公告)号: CN103435574A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 李晓莲;马黎明;赵建华;尹方敏;刘馨月 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C07D277/74 分类号: C07D277/74;C07D417/12;A61K31/498;A61K31/433;A61P35/00
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 赵淑梅;李馨
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 巯基 噻唑 取代 杂环类 化合物 及其 应用
【说明书】:

技术领域

发明涉及生物有机合成领域中一类抗肿瘤巯基苯并噻唑取代的苊并杂环类化合物的合成及其应用。

背景技术

喹喔啉衍生物是一类重要的苯并吡嗪类杂环化合物,这类物质在许多生物领域表现出良好的活性。既可以用作杀菌剂、杀虫剂、除草剂、染料等,还可以用于抗肿瘤物质及HIV-1逆转录酶抑制剂。喹喔啉氮氧化物可以作为一类很好的还原性药物,这类化合物具有缺氧选择性细胞毒作用,能够在缺氧条件下被生物酶活化,这样就可以选择性杀死肿瘤缺氧细胞,而对正常细胞损伤很小。Ortega等设计合成了喹喔啉腈-1,4-双-N-氧化物化合物,乏氧细胞毒活性比抗肿瘤增敏剂代表化合物SR-4233高几十倍,同时这类化合物的构效关系表明6位或是7位引入弱吸电子基团有利于活性的提高,而供电子基团则不利于活性的提高。XK469是正在开发的抗肿瘤药物,但是它只有在高浓度下才有效。为了进一步提高它的抗肿瘤活性,赵翠花等对其进行了结构修饰,体外抗肿瘤活性显示,当浓度为1×10-4M时,衍生物对A549表现出抑制作用。Sethu Ramakrishnan等设计合成了一系列喹喔啉衍生物的铜配合物,其中光谱测试表明配合物可以很好的嵌入CT DNA,能够引起细胞核固缩。

含硫杂环在靶向分子的设计中有重要的作用,本发明设计合成了一类巯基苯并噻唑取代的苊并杂环类化合物,增大了苊醌的共轭面积,扩展苊并杂环衍生物的多样性,对多种肿瘤细胞生长具有强抑制能力。

发明内容

本发明的目的是以苊醌为起始原料,“非萘并”的方式引入巯基苯并噻唑,设计合成了一类巯基苯并噻唑取代的苊并杂环类化合物,并通过并环增大苊醌的共轭面积,扩展苊并杂环衍生物的多样性,改善分子的生物学活性,从而提高其抗肿瘤性能。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种巯基苯并噻唑取代的苊并杂环类中间体化合物,所述化合物结构式为Y:

一种制备所述的中间体化合物的方法,将化合物1(苊醌)与液溴反应得化合物2(4-溴-1,8-苊醌),再与化合物3(巯基苯并噻唑)混合后,加入催化剂碳酸钾在DMF中反应得所述的中间体化合物。

一类由权利要求1所述的中间体化合物制备的化合物,所述化合物分别为F1、F2和F3,其结构式为:

一种制备上述化合物的方法,将中间体化合物分别与相应的胺:邻苯二胺、硫酰胺和二氨基马来腈反应,分别得到化合物F1、F2和F3。

上述反应的合成路线为:

本发明所述的化合物F1~F3在抑制肿瘤细胞生长活性中的应用,所述肿瘤细胞优选MCF-7乳腺癌细胞、Hela子宫颈癌细胞和SMMC-7721肝癌细胞。

用四氮唑盐还原法验证本发明所述的化合物F1~F3在体外抑制Hela子宫颈癌细胞、MCF-7乳腺癌细胞、SMMC-7721肝癌细胞的生长活性中的作用,具体步骤如下:

1、接种细胞

分别将Hela子宫颈癌细胞、MCF-7乳腺癌细胞和SMMC-7721肝癌细胞,以200μL/孔接种于96孔微量培养板内,最外围加入200μLPBS,提供充足的水分保证细胞的生长环境,将培养板放至37℃、5%CO2的环境中温育24h~48h。

2、添加药物

用培养基将本发明所述化合物F1~F3分别稀释成10-8、10-7、10-6、10-5M四个梯度浓度,吸去96孔板中2-11列的培养基,在第2列和第11列的8个孔中加入200μL的培养基,作为空白对照。在第3-10列的细胞中加入配制好的药物。每个药物浓度需要6个复孔,减小误差。处理完成后,将96孔板放回CO2培养箱中,培育48h。

3、存活细胞数的检测

在第1-11列所有孔中均加入20μL MTT。放到CO2培养箱中温育4h,弃去孔中的培养基和MTT,在第1-11列所有孔中各加入200μL MSO,溶解残留的MTT-甲臜结晶,然后用酶标仪测定各孔吸光度记录结果,按下列公式计算被测物对癌细胞生长的IC50值:

lgIC50=Xm-I[P-(3-Pm-Pn)/4]

其中Xm:lg最大剂量;I:lg(最大剂量/相连剂量);P:阳性反应率之和;Pm:最大阳性反应率;Pn:最小阳性反应率。

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