[发明专利]一种基于磁流变弹性体的抛光方法与装置有效
申请号: | 201310366332.7 | 申请日: | 2013-08-21 |
公开(公告)号: | CN103447890A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 汤春瑞;赵灿;刘丹丹 | 申请(专利权)人: | 黑龙江科技大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 深圳市智科友专利商标事务所 44241 | 代理人: | 曲家彬 |
地址: | 150022 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 流变 弹性体 抛光 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及叶片、叶轮类零件抛光加工领域,尤其涉及一种基于磁流变弹性体的抛光方法及装置。
背景技术
零件表面的质量对零件使用性能、寿命、可靠性等有很大的影响。抛光作为一种表面处理方法,利用抛光工具或其他抛光介质对工件表面进行修饰加工。叶片叶轮类零件的抛光通常采用磨粒流、袋式抛光等抛光方法,但磨粒流、袋式等都存在抛光过程依据经验,人为因素较多,很难获得可控的高精度的表面质量。磁流变液作为一种智能材料,是由高磁导率、低磁滞性的微小软磁性颗粒和非导磁性液体混合而成的悬浮体,开始在抛光加工领域应用。磁流变液抛光具有面型贴合好、不改变工件面形精度;磨头的硬度可调、非接触式抛光不会产生下表面破坏层等优点,但是,同时也存在以下缺点:有沉降,不能长时间放置;抛光去除率低;因为有抛光去除的材料影响磁流变液的磁致剪切性能,去除模型不可控。
发明内容
本发明的第一目的在于克服现有技术中的抛光去除率低、模型不可控制、可靠性低、需要高压的缺点,提供了一种基于磁流变弹性体的抛光方法。
本发明的第二目的在于克服现有技术中的抛光去除率低、模型不可控制、可靠性低、需要高压的缺点,提供了一种基于磁流变弹性体的抛光装置。
本发明实现第一发明目的采用的技术方案是:一种基于磁流变弹性体的抛光方法,与现有的抛光设备结合使用,包括以下步骤:
A、将带有磁流变弹性体磨头的刀柄安装在抛光设备的主轴上;
B、通过磁场施加装置调节磁流变弹性体磨头附近的磁场,使磁流变弹性体磨头的刚度随磁场强度的调节而同趋势变化,进而调节磁流变弹性体磨头去除率,实现对被抛光零件的复杂曲面的程控抛光。
所述的磁流变弹性体磨头主要由磨料、高分子聚合物和铁磁性颗粒组成。所述的抛光设备为加工机床。
本发明实现第二发明目的采用的技术方案是:一种基于磁流变弹性体的抛光装置,与现有的抛光设备结合使用,所述的抛光装置包括:刀柄、磁流变弹性体磨头和磁场施加装置,所述的磁场施加装置包括:电磁铁、主轴套筒、电磁铁与主轴套筒的连接件,主轴套筒的内径尺寸与抛光设备的主轴外径尺寸相对应,连接件一端和主轴套筒固定连接,连接件另一端和电磁铁固定连接,刀柄一端和磁流变弹性体磨头固定连接,刀柄另一端安装在抛光设备的主轴上,主轴套筒安装在抛光设备的主轴外,一对电磁铁通过连接件的支撑设置在磁流变弹性体磨头的两侧。
本发明的有益效果是:磁流变弹性体兼有磁流变材料和弹性体的优点,不仅响应快、可逆性好、可控能力强,还克服了磁流变液沉降、稳定性差等缺点,利用磁流变弹性体的特性,通过磁场控制磁流变弹性体的状态,使磁流变弹性体磨头的刚度随磁场强度的调节而同趋势变化,进而调节磁流变弹性体磨头去除率,和现有的加工机床结合,实现对叶片、叶轮类零件等复杂曲面的程控抛光,有效的解决了已有抛光过程可靠性低及需要高压的问题,利用这种微力微量的切削逐步地达到光整加工的效果。
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步的描述。
附图说明
图1为本发明的方法流程图。
图2为本发明的装置的结构示意图。
附图中,1为主轴套筒、2为主轴、3为刀柄、4为磁流变弹性体磨头、5为电磁铁、6为连接件。
具体实施方式
如附图1所示,本实施例的一种基于磁流变弹性体的抛光方法,与现有的抛光设备结合使用,包括以下步骤:
A、将带有磁流变弹性体磨头的刀柄安装在抛光设备的主轴上;
B、通过磁场施加装置调节磁流变弹性体磨头附近的磁场,使磁流变弹性体磨头的刚度随磁场强度的调节而同趋势变化,进而调节磁流变弹性体磨头去除率,实现对被抛光零件的复杂曲面的程控抛光。具体步骤为:
a、根据被抛光零件的抛光工艺参数,确定磁流变弹性体磨头的初始抛光刚度;
b、通过抛光设备的主轴使磁流变弹性体磨头旋转,磁流变弹性体磨头与被抛光零件表面相对移动并发生摩擦,实现磁流变弹性体磨头对被抛光零件表面的抛光加工;
c、根据被抛光零件的抛光工艺要求,改变磁流变弹性体磨头的外加磁场强度,调节磁流变弹性体磨头的刚度;
d、重复步骤b和步骤c,继续实现在不同磁流变弹性体磨头的刚度状态下,磁流变弹性体磨头对被抛光零件表面的抛光加工。
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