[发明专利]废液处理方法、废液处理系统及其设备在审

专利信息
申请号: 201310366810.4 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN104418414A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 廖本卫;李威霖;黄贤铭;林志峰;陈贵勇;徐乔奇;郑佳桦 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: C02F1/52 分类号: C02F1/52
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 废液 处理 方法 系统 及其 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种废液处理方法,尤指一种印刷电路板制程的废液处理方法。

背景技术

现今社会工商业蓬勃发展,人们对于电子产品的需求与日俱增,因而使电子产品中必备的印刷电路板的需求量也急速成长。在印刷电路板的生产过程中有多道水洗制程,会产生酸性废水、碱性废水、显影废液、剥膜废液及去墨废液,其中在显影、剥膜及去墨等制程中所产生的废液中含有大量有机污染物。随着社会生活水准的提高、环保意识抬头,这些工业废水的处理渐渐成为社会关注的环境议题。

请参阅图1,对于显影、剥膜及去墨等制程,现有废液处理的流程先进行酸化作业的步骤S11,于废液中添加硫酸(H2SO4),以酸化废液;接着,进行初次沉淀的步骤S12,以还原部分油墨树脂并沉淀,而去除沉淀物;之后,经由调匀池后,进行化学混凝作业的步骤S13,其利用混凝剂及高分子聚凝剂去除液中分散且不易沉降的悬浮固体物,例如,于该经去除沉淀物的废液中加入混凝剂(如FeCl2与聚合氯化铝(Polyaluminium Chloride, PAC)、助凝剂(即高分子聚凝剂)及还原剂(如45%NaOH),以进行二次沉淀的步骤S14,藉以去除废液中的铜(Cu+2)与化学需氧量(Chemical Oxygen Demand, COD);最后,依序进行压滤作业与酸碱中和的步骤S15,S16,先移除有害污泥,待调整该经处理的废水的pH值后,再放流废水。

于上述现有处理废液的方法中,对于去除废液中有机污染物的主要步骤为酸化作业,其藉由将废液的pH值调整至约3的情况下,使废液中的有机盐类的溶解度下降,进而析出约62%的有机悬浮颗粒。

然而,剥膜及去墨制程中所产生的废液为高碱性废液,因此为了使废液达到可析出有机悬浮颗粒的酸性环境,需添加大量的硫酸以进行酸化作业,因而造成处理废液所需的成本难以降低。

此外,于化学混凝作业的步骤S13中,需使用大量NaOH作为还原剂,也使处理废液所需的成本难以降低。

因此,如何克服现有处理污水的方法的种种缺失,实已成为目前亟欲解决的课题。

发明内容

有鉴于现有技术的种种缺失,本发明的主要目的为提供一种废液处理方法、废液处理系统及其设备,能降低废液处理的成本。

本发明的印刷电路板制程的废液处理方法,包括:于该废液中加入含钙液体,以形成混合液;以及进行化学混凝作业,以移除该混合液中的悬浮物。

本发明还提供一种印刷电路板制程的废液处理系统,包括:供应设备,具有一用于填装该含钙粉体的供料槽;以及混合设备,其用于接收该废液及该含钙液体,以制成由该废液与该含钙液体所形成的混合液。

本发明亦提供一种供应设备,用于印刷电路板制程的废液处理系统中,该供应设备包括:供应装置,其用于供应含钙粉体;以及乳化装置,其连通该供应装置以将该含钙粉体调配成含钙液体。

由上可知,本发明的废液处理方法、废液处理系统及其设备,藉由添加含钙液体,使钙离子置换废液中的钠离子,并使废液中所含的有机污染物沉淀,藉以取代现有以酸化析出有机污染物的方法。

因此,本发明的废液处理方法不需耗费大量的硫酸以析出有机悬浮颗粒,所以能降低处理废液所需的成本。

此外,本发明的废液处理方法亦不需使用大量NaOH作为还原剂,详如后续,所以能降低处理废液所需的成本。

附图说明

图1为显示现有废液处理方法的流程图;

图2为显示本发明的废液处理方法的流程图;

图3为显示本发明的废液处理方法的部分处理系统的示意图;以及

图4为显示图3的处理系统的部分设备的示意图。

符号说明

3                 处理系统

30,4              供应设备

30a               第一路线

30b               第二路线

300               预拌器

31                过滤设备

32                混合设备

32a               第三路线

32b               第四路线

320               搅拌器

33                集中设备

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欣兴电子股份有限公司,未经欣兴电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310366810.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top