[发明专利]具有分隔接触的磁性叠层在审

专利信息
申请号: 201310368249.3 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN103632684A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: H·S·埃德尔曼;V·B·萨波日尼克;M·S·U·帕特瓦里 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66;G11B5/60
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 分隔 接触 磁性
【权利要求书】:

1.一种装置,包括分别被配置成配合于数据存储介质的毗邻数据轨道的数个磁性叠层,每个磁性叠层被设置在前缘和后缘屏蔽之间,至少一个屏蔽被分段成数个接触,所述接触的数目不同于磁性叠层的数目,所述接触被电气分隔以实现二维数据感测。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述磁性叠层的数目小于所述电接触的数目。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述磁性叠层的数目大于所述电接触的数目。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,每个磁性叠层是三层传感器,所述三层传感器包括多个磁性自由层但没有固定的磁性基准结构。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述前缘屏蔽和后缘屏蔽中的至少一个横跨所述数个磁性叠层连续地延伸。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述前缘屏蔽和后缘屏蔽中的至少一个被至少一个沟槽物理地分隔成多个电接触部分。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述至少一个沟槽具有以非正交角形成的侧壁。

8.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述至少一个沟槽具有形成为连续弯曲的侧壁。

9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述至少一个电接触跨过多个磁性叠层。

10.如权利要求1所述的装置,其特征在于,每个磁性叠层被定位在空气承载表面(ABS)上。

11.一种磁性元件,包括数个磁性叠层,所述磁性叠层的数目不同于从毗邻所述数个磁性叠层的屏蔽分段出的电接触的数目。

12.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,偏磁体横跨每个磁性叠层连续地延伸,与空气承载表面(ABS)相对。

13.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,至少一个电接触的尺寸被设计成横跨单个磁性叠层。

14.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,所述多个磁性叠层由单个连续的磁性分层形成。

15.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,每个读传感器被定位以同时地从毗邻数据存储介质上的毗邻数据轨道存取用户数据。

16.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,所述数个磁性叠层被配置成执行二维数据感测。

17.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,每个磁性叠层通过沟槽与毗邻的磁性叠层物理地分隔开。

18.如权利要求11所述的磁性元件,其特征在于,每个磁性叠层包括多个层,所述沟槽延伸通过所述多个磁性层中的一些,但不是全部。

19.一种换能头,包括:

设置在空气承载表面(ABS)上的前缘屏蔽和后缘屏蔽之间的数个磁性叠层;以及

提供数目与磁性叠层数目不同的数个电接触的装置。

20.如权利要求19所述的换能头,其特征在于,所述装置包括延伸过所述前缘屏蔽和后缘屏蔽中的至少一个的物理沟槽。

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