[发明专利]液晶显示装置无效
申请号: | 201310370201.6 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN103631062A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 松井庆枝;山本昌直;国松登;园田英博 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本显示器 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;王大方 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 | ||
1.一种液晶显示装置,其特征在于,
在TFT基板侧形成有滤色器、对置电极、层间绝缘膜、像素电极、取向膜,隔着液晶层配置有对置基板,
在所述像素电极和所述上述层间绝缘膜之间形成有Si半导体层。
2.一种液晶显示装置,其特征在于,
在TFT基板侧形成有滤色器、对置电极、层间绝缘膜、像素电极、取向膜,隔着液晶层配置有对置基板,
在所述像素电极和所述取向膜之间形成有Si半导体层。
3.一种液晶显示装置,其特征在于,
在TFT基板侧形成有对置电极、层间绝缘膜、像素电极、取向膜,隔着液晶层配置有形成有滤色器的对置基板,
在所述像素电极和所述层间绝缘膜之间形成有Si半导体层。
4.一种液晶显示装置,其特征在于,
在TFT基板侧形成有对置电极、层间绝缘膜、像素电极、取向膜,隔着液晶层配置有形成有滤色器的对置基板,
在所述像素电极和所述取向膜之间形成有Si半导体层。
5.如权利要求1至4中任一项所述的液晶显示装置,其特征在于,所述Si半导体层为a-Si。
6.如权利要求1至4中任一项所述的液晶显示装置,其特征在于,所述Si半导体层的厚度为5nm~100nm。
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