[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310370292.3 申请日: 2013-08-22
公开(公告)号: CN104425742A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 周明杰;黄辉;钟铁涛;王平 申请(专利权)人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 生启;何平
地址: 518100 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

有机电致发光器件的发光原理是基于在外加电场的作用下,电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道(LUMO),而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道(HOMO)。电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子,激子在电场作用下迁移,将能量传递给发光材料,并激发电子从基态跃迁到激发态,激发态能量通过辐射失活,产生光子,释放光能。传统的有机电致发光器件出光性能较低。

发明内容

基于此,有必要提供一种出光效率较高的有机电致发光器件及其制备方法。

一种有机电致发光器件,包括依次层叠的玻璃基底、阳极、散射层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极,所述散射层的材料包括金属氧化物、铜的化合物及碳酸盐,所述金属氧化物选自三氧化钼、三氧化钨及五氧化二钒中的至少一种,所述碳酸盐选自碳酸钙、碳酸镁、碳酸锂及碳酸钡中的至少一种,所述金属氧化物、铜的化合物和碳酸盐的质量比为5:3:1~10:1:1。

在其中一个实施例中,所述铜的化合物选自碘化亚铜、氧化亚铜、酞菁铜及氧化铜中的至少一种。

在其中一个实施例中,所述散射层的厚度为100nm~600nm。

在其中一个实施例中,所述发光层的材料为4-(二腈甲基)-2-丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9,10-二-β-亚萘基蒽、4,4'-双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,1'-联苯及8-羟基喹啉铝。

在其中一个实施例中,所述阳极的材料为铟锡氧化物、铝锌氧化物或铟锌氧化物。

一种有机电致发光器件的制备方法,包括以下步骤:

在玻璃基底表面制备阳极;

在所述阳极表面制备散射层,所述散射层的材料包括金属氧化物、铜的化合物及碳酸盐,所述金属氧化物选自三氧化钼、三氧化钨及五氧化二钒中的至少一种,所述碳酸盐选自碳酸钙、碳酸镁、碳酸锂及碳酸钡中的至少一种,所述金属氧化物、铜的化合物和碳酸盐的质量比为5:3:1~10:1:1;及

在所述散射层的表面依次制备空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极。

在其中一个实施例中,所述铜的化合物选自碘化亚铜、氧化亚铜、酞菁铜及氧化铜中的至少一种。

在其中一个实施例中,所述散射层的厚度为100nm~600nm。

在其中一个实施例中,所述散射层通过电子束蒸镀制备,电子束蒸镀的能量密度为10~100W/cm2

在其中一个实施例中,所述玻璃基底在制备阳极前用蒸馏水、乙醇冲洗干净后,放在异丙醇中浸泡12小时~24小时。

上述有机电致发光器件及其制备方法,在阳极的表面制备散射层,散射层由具有空穴注入能力的金属氧化物与铜的化合物以及碳酸盐组成,金属氧化物具有空穴注入能力,可提高空穴的注入,同时,金属氧化物粒径较大,可对光进行散射,铜的化合物的HOMO能级较低,有利于空穴的注入,进一步提高空穴注入能力,其原子半径较大,有利于光子的散射,在晶体中进行来回的多次反射后,入射角得以改变,最后出射到基板中,而碳酸盐可提高纳米粒子的比表面积,进一步提高光散射,从而有机电致发光器件的出光效率较高。

附图说明

图1为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图;

图2为一实施方式的有机电致发光器件的制备方法的流程图;

图3为实施例1制备的有机电致发光器件的亮度与流明效率关系图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对有机电致发光器件及其制备方法进一步阐明。

请参阅图1,一实施方式的有机电致发光器件100包括依次层叠的玻璃基底10、阳极20、散射层30、空穴注入层40、空穴传输层50、发光层60、电子传输层70、电子注入层80及阴极90。

玻璃基底10为折射率为1.8~2.2的玻璃,在400nm透过率高于90%。玻璃基底10优选为牌号为N-LAF36、N-LASF31A、N-LASF41A或N-LASF44的玻璃。

阳极20形成于玻璃基底10的一侧表面。阳极20的材料为铟锡氧化物(ITO)、铝锌氧化物(AZO)或铟锌氧化物(IZO),优选为ITO。阳极20的厚度为80nm~300nm,优选为120nm。

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