[发明专利]蚀刻方法

权利要求书

1.一种蚀刻方法，其特征在于所述蚀刻方法包括下述步骤：

在工件的表面的预定部分上涂覆耐腐蚀胶，对工件的涂覆耐腐蚀胶后的所述表面进行掩膜处理；

对掩膜处理后的工件用第一蚀刻液进行喷淋蚀刻，以在工作的所述表面上形成初始凹凸结构；

对蚀刻后的工件进行脱膜处理，以去除工件表面的掩膜；

将脱膜处理后的工件放到第二蚀刻液中浸泡，以去除连续的初始凸凹结构的棱边和减小将要形成的微结构的蚀刻深度；以及

将浸泡后的工件用水冲洗、干燥然后抛光，从而在工件的所述表面上形成微结构，

其中，对掩膜处理后的工件进行喷淋蚀刻的步骤包括：控制蚀刻液按预定的时间间隔以逐渐减小的蚀刻压力对工件的表面进行蚀刻，

其中，所述第一蚀刻液与所述第二蚀刻液相同，并且均由以重量计的下述组分配制而成：15％-25％的三氯化铁，30％-50％的氢氟酸或20％-40％的硝酸，2％-5％的磷酸，其余为水。

2.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其特征在于在工件的表面的预定部分上涂覆耐腐蚀胶之后，对工件的所述表面执行烘干、曝光、显影和再次烘干的操作，从而完成对工作的涂覆耐腐蚀胶后的所述表面进行掩膜处理的步骤。

3.根据权利要求2所述的蚀刻方法，其特征在于，再次烘干操作的持续时间为3min-10min。

4.根据权利要求1或2所述的蚀刻方法，其特征在于在工件的表面的预定部分上涂覆耐腐蚀胶的步骤包括：在工件的表面的预定部分涂覆具有正方形形状的耐腐蚀胶，使得工件的表面包括被涂覆了耐腐蚀胶的涂覆部分和未被涂覆耐腐蚀胶的未涂覆部分，其中，未涂覆部分位于彼此相邻的涂覆部分之间并且对应于将要形成在工件的表面上的凹型结构。

5.根据权利要求4所述的蚀刻方法，其特征在于工件表面的涂覆部分呈阵列型，每个涂覆部分的厚度在30μm和60μm之间，每个涂覆部分是边长在400μm和500μm之间的正方形块，彼此相邻的涂覆部分之间的间隙的宽度在120μm和200μm之间。

6.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其特征在于对掩膜处理后的工件进行喷淋蚀刻的步骤包括：控制从蚀刻机的喷嘴喷出的蚀刻液呈扇形均匀分布，以对工件表面的未涂覆耐腐蚀胶的部分进行蚀刻。

7.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其特征在于蚀刻液的初始喷淋压力在1.6psi-1.8psi的范围内，每隔1min-2min使喷淋压力下减小0.3psi-0.6psi，直至将喷淋压力调整到0psi。