[发明专利]静电吸盘

权利要求书

1.一种静电吸盘，其特征为，

具备：陶瓷电介体基板，其为多结晶陶瓷烧结体，具有放置处理对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；

及电极层，内设于所述陶瓷电介体基板的所述第1主面与所述第2主面之间，一体烧结于所述陶瓷电介体基板，

所述陶瓷电介体基板具有：第1电介层，位于所述电极层与所述第1主面之间；及第2电介层，位于所述电极层与所述第2主面之间，

所述电极层具有：第1部分，具有导电性；及第2部分，将所述第1电介层与所述第2电介层结合起来，

所述第2部分所含有的结晶的平均粒径小于所述陶瓷电介体基板所含有的结晶的平均粒径。

2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征为，所述第2部分具有在不平行于所述第1主面的方向上延伸的部分。

3.根据权利要求2所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板所含有的结晶粒子与所述第2部分所含有的结晶粒子通过固相烧结或液相烧结而相互结合。

4.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板所含有的结晶粒子彼此通过固相烧结或液相烧结而相互结合。

5.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征为，所述第1部分与所述第2部分直接结合。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板的纯度为99.9重量%以上。

7.根据权利要求3所述的静电吸盘，其特征为，所述第2部分的材料与所述陶瓷电介体基板为同种材料。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述第1电介层的厚度为100微米以上。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述电极层的厚度为15微米以下。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述第2部分所含有的结晶的平均粒径为所述电极层的厚度的1/2以下。

11.根据权利要求1至10中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板所含有的结晶的材料为Al₂O₃。