[发明专利]静电吸盘

权利要求书

1.一种静电吸盘，其特征为，

具备：陶瓷电介体基板，其为多结晶陶瓷烧结体，具有放置处理对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；

及电极层，内设于所述陶瓷电介体基板的所述第1主面与所述第2主面之间，一体烧结于所述陶瓷电介体基板，

所述陶瓷电介体基板具有：第1电介层，位于所述电极层与所述第1主面之间；及第2电介层，位于所述电极层与所述第2主面之间，

所述陶瓷电介体基板中至少所述第1电介层的红外线分光透过率为，按1毫米厚度换算时为20%以上。

2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征为，所述第1电介层的厚度为100微米以上。

3.根据权利要求2所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板所含有的结晶粒子彼此通过固相烧结或液相烧结而相互结合。

4.根据权利要求3所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板的纯度为99.9重量%以上。

5.根据权利要求2至4中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述第1电介层所含有的异物的外径为3毫米以下。

6.根据权利要求5所述的静电吸盘，其特征为，所述异物的外径为2毫米以下。

7.根据权利要求2至6中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述第1电介层所含有的异物在每个单位面积所占的比例为0.16面积%以下。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述电极层包括：第1部分，具有导电性；及第2部分，与所述第1部分相比红外线分光透过率高。

9.根据权利要求8所述的静电吸盘，其特征为，所述第1部分与所述第2部分直接结合。

10.根据权利要求8所述的静电吸盘，其特征为，

所述第2部分机械性结合所述第1电介层与所述第2电介层，

所述第2部分光学性结合所述第1电介层与所述第2电介层，以便使红外线透过所述电极层。

11.根据权利要求10所述的静电吸盘，其特征为，所述第2部分具有在不平行于所述第1主面的方向上延伸的部分。

12.根据权利要求8至11中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板所含有的结晶的平均粒径大于所述第2部分所含有的结晶的平均粒径。

13.根据权利要求8至12中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述第2部分的材料与所述陶瓷电介体基板为同种材料。

14.根据权利要求1至13中任意一项所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷电介体基板所含有的结晶的材料为Al₂O₃、Y₂O₃及YAG中的任意一种。