[发明专利]光触媒构件

权利要求书

1.一种光触媒构件，其为至少由具有瓷釉层的基体材料与在该瓷釉层上形成的包含氧化钛及钛酸锆的光触媒层所形成的光触媒构件，其特征为，

所述光触媒层中的钛酸锆的量占所述氧化钛及所述钛酸锆总量的15～75质量%，且与在所述光触媒层的表面附近的所述钛酸锆的含量相比，在与所述基体材料的界面附近到所述光触媒层的厚度的中间区域的钛酸锆的含量大。

2.根据权利要求1中所述的光触媒构件，其特征为，所述钛酸锆在所述光触媒层的表面上观察不到。

3.根据权利要求1或2中所述的光触媒构件，其特征为，在所述光触媒层中含有35～65质量%的所述钛酸锆而形成。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的光触媒构件，其特征为，所述光触媒层的膜厚为50nm～200nm。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的光触媒构件，其特征为，所述光触媒构件为卫生陶器。

6.一种方法，其为根据权利要求1～5中任意一项所述的光触媒构件的制造方法，其特征为，

准备具有瓷釉层的基体材料，

在该基体材料上涂布具有氧化钛/氧化锆的重量比小于80/20的组成的涂层组合物，并进行干燥从而形成下层，

涂布与构成所述下层的涂层组合物的氧化钛/氧化锆相比该比大的组成的涂层组合物，并烧成从而形成最上层。

7.根据权利要求6中所述的方法，其特征为，第1层及第2层的烧成温度为600～900℃。

8.根据权利要求6或7中所述的方法，其特征为，由氧化钛/氧化锆的重量比为70/30或者小于该比的组成的涂层组合物形成所述下层。

9.根据权利要求6～8中任意一项所述的方法，其特征为，由氧化钛/氧化锆的重量比为70/30或者大于该比的组成的涂层组合物形成所述上层。