[发明专利]内嵌式触摸屏、其制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种内嵌式触摸屏，包括阵列基板、对向基板以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层，其特征在于，还包括：

位于所述阵列基板和所述对向基板之间的呈矩阵排列的多个压电敏感部件，每个所述压电敏感部件包括：纳米线阵列和隔垫物；其中，所述纳米线阵列中各纳米线的延伸方向垂直于所述阵列基板和所述对向基板；

与所述压电敏感部件中的纳米线阵列电性相连的电极线，在所述压电敏感部件中的纳米线阵列受到隔垫物挤压发生形变时，所述纳米线阵列释放出电荷使加载到所述电极线上的电信号发生变化。

2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述纳米线阵列和所述电极线位于所述阵列基板面向所述液晶层的一侧，所述隔垫物位于所述对向基板面向所述液晶层的一侧；或，所述纳米线阵列和所述电极线位于所述对向基板面向所述液晶层的一侧，所述隔垫物位于所述阵列基板面向所述液晶层的一侧；

所述压电敏感部件中的隔垫物与纳米线阵列相抵。

3.如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述隔垫物与所述纳米阵列相抵的一侧具有尖端结构。

4.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述纳米线阵列、所述电极线以及所述隔垫物位于所述阵列基板面向所述液晶层的一侧；或，所述纳米线阵列、所述电极线以及所述隔垫物位于所述对向基板面向所述液晶层的一侧；

所述压电敏感部件中的隔垫物包覆在所述纳米线阵列的外侧。

5.如权利要求2-4任一项所述的触摸屏，其特征在于，所述电极线包括交叉而置的第一电极线和第二电极线，各所述压电敏感部件中的纳米线阵列位于所述第一电极线和所述第二电极线的交叉节点处。

6.如权利要求5所述的触摸屏，其特征在于，当所述电极线位于所述阵列基板面向液晶层的一侧时，所述第一电极线与所述阵列基板中的栅线延伸方向相同，所述第二电极线与所述阵列基板中的数据线延伸方向相同。

7.如权利要求6所述的触摸屏，其特征在于，在所述阵列基板中相邻行的像素单元之间具有两条栅线，且每相邻的两列像素单元为一个像素单元组，共用一条位于该两列像素单元之间的数据线；所述第一电极线位于所述相邻行的像素单元之间具有的两条栅线之间的间隙处；并且所述第二电极线位于相邻的所述像素单元组之间的间隙处。

8.如权利要求7所述的触摸屏，其特征在于，所述第一电极线与所述栅线同层设置；和/或，

所述第二电极线与所述数据线同层设置。

9.如权利要求5所述的触摸屏，其特征在于，当所述电极线位于所述对向基板面向液晶层的一侧时，所述电极线在所述对向基板上的正投影被所述对向基板上设置的黑矩阵图案覆盖。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的内嵌式触摸屏。

11.一种内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，包括：

在阵列基板上形成包括栅线和第一电极线的图形；

在阵列基板上形成包括数据线和第二电极线的图形；

在阵列基板上形成钝化绝缘层，并在所述钝化绝缘层位于所述第一电极线和所述第二电极线的交叉节点处形成过孔；

在所述过孔内形成纳米线阵列，使得所述纳米线阵列中各纳米线的延伸方向垂直于所述阵列基板；以及

在对向基板上形成与所述纳米线阵列相对应的隔垫物。

12.一种内嵌式触摸屏的制备方法，其特征在于，包括：

在对向基板上形成包括第一电极线和第二电极线的图形；

在所述第一电极线和所述第二电极线的交叉节点处制备纳米线阵列，使得所述纳米线阵列中各纳米线的延伸方向垂直于所述对向基板；

在对向基板上制备包括黑矩阵的图形，所述黑矩阵的图形覆盖所述第一电极线和所述第二电极线的图形；以及

在阵列基板上形成与所述纳米线阵列相对应的隔垫物。