[发明专利]液晶面板及其制作方法、显示器

说明书

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种液晶面板及其制作方法和显示器。

背景技术

高级超维场转换（Advanced Super Dimension Switch，ADS）技术是液晶界为解决大尺寸、高清晰度桌面显示器和液晶电视应用而开发的广视角技术，也就是现在俗称的硬屏技术的一种。ADS技术通过同一平面内像素间电极产生多维电场，使电极间以及电极正上方的取向液晶分子都能发生旋转转换，从而提高液晶层的透光效率。ADS技术克服了常规平面方向转换（In-Plane-Switching，IPS）技术透光效率低的问题，在宽视角的前提下，实现高的透光效率。ADS技术的主要优势是：在各方向观察均不发生色偏；高色彩还原性；受挤压情况下不发生水波纹现象；超宽视角；响应速度快；高对比度；低功耗。

目前制作ADS型液晶面板时的方法包括，在阵列工艺制得的阵列基板上制作取向层--聚酰亚胺（Polyimide，PI）层，对阵列基板上已经制得的PI层进行摩擦处理，在PI层上形成具有一定方向性的沟痕，形成一定的预倾斜角（Pretilt angle），以达到对液晶分子取向的作用。对PI层的处理工艺为摩擦取向（rubbing）工艺，而由于阵列基板的表面高度不均匀，因此在阵列基板上具有高度差的区域rubbing工艺形成的沟痕的深度也会不同，进而引起液晶面板的暗态漏光。

综上所述，现有技术中的ADS模式液晶面板制作时的rubbing工艺会引起暗态漏光，从而导致液晶面板的对比度受到影响，导致液晶面板整体显示质量下降。

发明内容

本发明实施例提供了一种液晶面板及其制作方法、显示器，用以省略现有技术中阵列基板侧的rubbing工艺，并改善液晶面板暗态漏光的问题。

本发明实施例提供的一种液晶面板，所述液晶面板包括：阵列基板和与该阵列基板相对的对向基板，所述阵列基板上形成有作为取向层的聚合物分散蓝相液晶层；其中，所述阵列基板上包括至少两个电极。

本发明实施例提供的一种液晶面板的制作方法，该方法包括：

在阵列基板上制作聚合物分散蓝相液晶层；所述阵列基板上包括至少两个电极，用以在该阵列基板表面形成电场；

将制作有聚合物分散蓝相液晶层的阵列基板与对向基板进行对盒工艺，形成液晶盒。

本发明实施例提供的一种显示器，包括所述的液晶面板。

综上所述，本发明实施例提供的技术方案中，在阵列基板上制作聚合物分散蓝相液晶层；所述阵列基板上包括至少两个电极，用以在该阵列基板表面形成电场；将制作有聚合物分散蓝相液晶层的阵列基板与对向基板进行对盒工艺，形成液晶盒，用制作在阵列基板上的聚合物分散蓝相液晶层代替现有技术中阵列基板上的聚酰亚胺层，同时省略现有技术中的摩擦取向工艺，不但可以使得阵列基板的液晶分子精确取向，而且还可以改善液晶面板暗态漏光的问题，从而提升了液晶面板的整体竞争力。

附图说明

图1为本发明实施例中制作液晶面板的方法流程图；

图2为本发明实施例中制得的阵列基板的示意图；

图3为本发明实施例中在图2得到的阵列基板上制作聚合物分散蓝相液晶层后的示意图；

图4为本发明实施例中的聚合物分散蓝相液晶体系包含的物质示意图；

图5为本发明实施例中对阵列基板和聚合物分散蓝相液晶层进行热固化处理时的示意图；

图6为本发明实施例中制得的彩膜基板的示意图；

图7为本发明实施例中制得的液晶盒的示意图；

图8为本发明实施例中液晶盒处于暗态时的示意图；

图9为本发明实施例中液晶盒处于亮态时的示意图。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种液晶面板及其制作方法、显示器，用以省略现有技术中阵列基板侧的rubbing工艺，并改善液晶面板暗态漏光的问题。

下面给出本发明实施例提供的技术方案的详细介绍。

本发明实施例提供的一种液晶面板，所述液晶面板包括：阵列基板和与该阵列基板相对的对向基板，所述阵列基板上形成有作为取向层的聚合物分散蓝相液晶层；其中，所述阵列基板上包括至少两个电极。

上述阵列基板可以是IPS（In-plane Switch，平面内转换）型阵列基板或者ADS型阵列基板，这样在阵列基板上的至少两个电极可以是像素电极和公共电极；所述像素电极和公共电极在通电后可以在阵列基板的表面生成平面电场或者多维电场，进而控制所述聚合物分散蓝相液晶层中的液晶和阵列基板与对向基板之间的液晶发生偏转。