[发明专利]一种透射式分光光栅及干涉光刻系统有效
申请号: | 201310395325.X | 申请日: | 2013-09-03 |
公开(公告)号: | CN103424794A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 胡进;浦东林;陈林森 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G03F7/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 唐灵;常亮 |
地址: | 215123 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 透射 分光 光栅 干涉 光刻 系统 | ||
1.一种透射式分光光栅,其特征在于:包括位于入射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区,所述光栅槽形区包括深度逐渐递增的阶梯状光栅结构,该阶梯状光栅结构具有透射阶梯面和非透射区。
2.如权利要求1所述的透射式分光光栅,其特征在于:所述槽形透射面与所述光栅结构的占空比为0.6-0.8。
3.如权利要求1所述的透射式分光光栅,其特征在于:所述槽形透射面与所述光栅结构的占空比为
4.如权利要求1所述的透射式分光光栅,其特征在于:所述非透射区由制作在表面的阻光材料形成的光线暗区。
5.如权利要求1所述的透射式分光光栅,其特征在于:所述阻光区上设有阻光材料。
6.如权利要求1所述的透射式分光光栅,其特征在于:所述阶梯状光栅结构为一维光栅或二维光栅。
7.一种干涉光刻系统,包括光源、分束器件、投影光学镜组和载物平台,其特征在于:所述分束器件为权利要求1至6所述的透射式分光光栅,所述光源发射的光线截面大于所述透射式分光光栅的光栅槽形区尺寸。
8.如权利要求7所述的干涉光刻系统,其特征在于:所述光源发射的光线入射到所述透射式分光光栅的透射面上,该光线的入射方向与所述光栅基面形成入射角,所述入射角与所述斜角之间满足如下的关系:
[sin(θ)-sin(θ-2γ)]d/λ=N+1/2,
其中,θ为入射角,γ为斜角,N为自然数。
9.如权利要求7所述的干涉光刻系统,其特征在于:所述投影光学镜组包括至少两组透镜组,该些透镜组组成成像光路,所述透射式分光光栅形成该成像光路的物面,所述载物平台上放置一工件,该工件表面形成该成像光路的像面。
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