[发明专利]一种TFT阵列基板及显示面板、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及主动阵列（Active Matrix Array）领域，特别涉及一种包括测试焊盘区（Visual Test Area）的TFT（Thin Film Transistor）阵列基板及包含该TFT阵列基板显示面板、显示装置。

背景技术

TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶示器）是利用夹在液晶层上电场强度的变化，改变液晶分子的取向，从而控制透光的强弱来显示图像的。一般来讲，一块完整的液晶显示面板必须具有背光模块、偏光片、TFT阵列基板和彩膜（CF，Color Filter）基板以及由它们两块基板组成的盒中填充的液晶分子层构成。在TFT-LCD的制造过程中，在将TFT阵列基板与彩膜基板对合形成显示模组（Cell盒）之后，集成电路（IC）焊接到Cell盒之前，会有对TFT基板上各个器件的功能进行测试的步骤，即Cell Visual Test（显示模组可见化测试）。Cell Visual Test一般包括对TFT基板上的数据线、扫描线、公共电极线、TFT开关等是否能够正常工作进行测试。为了实现上述的测试，一般会在TFT基板上的显示区域的外围设计有测试焊盘区（Visual Test Area），测试焊盘区包括多个用于检测不同器件的测试点（Visual Test Pad）。如此的设计是为了避免以下情况出现，即当TFT基板上的器件存在不合格时，即器件的良率未达100%的情况下，如果一块带有不可修复的，不合格的Cell盒流入下一个工艺流程，即模组段。在模组段，会绑上IC（集成电路）。若绑上IC之后，经过点检发现不良问题，则需要拆除已经绑上的IC等相关器件，而被拆除的IC等器件，由于现有技术的工艺上的限制，会是被拆除的IC、FPC（柔性电路板）等器件损坏，必然造成IC、FPC等材料的浪费。因此，工厂往往会在Cell盒段设定检测流程，即Cell Visual Test，防止一定比率的不良的Cell盒流入下一工艺流程，带来不必要的损失。

如图1所示，为现有技术中在TFT基板上的焊盘区及测试点的结构设计示意图。其中，位于TFT基板1上外围区域B的焊盘区2（图中椭圆形虚线框），包括多个测试点（Visual Test Pad）3。由于测试点3的几何外形一般为矩形，每个测试点3的大小相等，多个测试点3的排列方式为位于同一直线上依次排列。由于测试点3与测试点3之间相互之间排列不紧密，会形成的空隙4，且空隙4面积较大。由于测试点3是形成于TFT基板1上的配向膜之前，那么如果当在TFT基板1上进行涂布配向膜时，即进行Rubbing（摩擦）工艺时，绒布滚轮扫到测试点3相互之间形成的空隙4，由于空隙4的方向H（图中虚线）与Rubbing方向R（图中虚线），接近一致，会使得绒布滚轮上的绒布会保持与空隙4形状相一致的形变，从而改变了原有绒布上已经配置好的细小的凹槽的形状，使得扫在空隙4处的绒布上的配向方向与其他部位不同，从而影响Rubbing的均匀性从而产生配向显示不均（Rubbing Mura），一般情况下是竖纹显示不均（Mura）。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种TFT阵列基板及显示面板、显示装置。

根据本发明的一个示范性的实施例，提供一种TFT阵列基板，包括：一基板，具有显示区域和所述显示区域的外围区域；焊盘测试区，形成在所述外围区域，所述焊盘测试区包括至少两个测试点，所述测试点相互之间至少存在一间隙，所述间隙具有间隙方向；配向膜，形成在所述显示区域，所述配向膜具有配向方向；所述间隙方向与所述配向方向在同一平面上交错，并至少具有一交错角；所述交错角中至少有一交错角大于5度。

根据本发明的一个示范性的实施例，提供一种显示面板，包括上述的TFT阵列基板，与所述TFT阵列基板相对设置的彩膜基板，以及位置所述TFT阵列基板与所述彩膜基板的液晶层。

根据本发明的一个示范性的实施例，提供一种显示装置，包括上述的显示面板。

由经上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明公开了一种TFT阵列基板及显示面板、显示装置。该TFT基板上焊盘区的测试点之间所形成的空隙，其空隙方向与配向膜的配向方向在同一平面上交错，并至少具有一交错角，交错角中至少有一交错角大于5度。从而改善了Rubbing Mura的问题。

附图说明