[发明专利]一种以阴离子表面活性剂为模板的介孔二氧化硅的制备方法

权利要求书

1.一种介孔二氧化硅的制备方法，其特征在于以阳离子聚季铵盐和阴离子表面活性剂的静电组装复合物为模板剂，具体步骤为：

第1、室温下，把阴离子表面活性剂充分溶解在去离子水中得到澄清溶液；搅拌下向上述溶液中加入无机酸溶液；随后加入阳离子聚季铵盐，搅拌，得到阳离子聚季铵盐-阴离子表面活性剂的复合物悬浮液；所述的无机酸为盐酸、硝酸、磷酸或者硫酸中的至少一种；

第2、向上述复合物悬浮液中加入硅源，搅拌，密封，25 ^oC-80 ^oC温度下静置反应12-48小时；产物经离心分离，干燥，550 ^oC焙烧6小时，得到白色产品；

第1步和第2步合成原料中的质量比为：阴离子表面活性剂：无机酸溶液：阳离子聚季铵盐：正硅酸乙酯：水 = (23-35) : (0-3) : (60-160) : (104-208) : (2000-4000)。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的阳离子聚季铵盐为聚二烯二甲基氯化铵，分子量为100,000-500,000。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的阴离子表面活性剂为十二烷基月桂酰肌氨酸钠，或者十二烷基谷氨酸钠。

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所制备的介孔二氧化硅特征为：比表面积为400-900 m² g^-1, 孔径大小为3.2-4.2 nm，总孔容为0.6-1.01 cm³ g^-1。