[发明专利]一种纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法

权利要求书

1.一种纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）将氧化钆靶（4）置于反应容器（5）中，然后在反应容器（5）中注入稀土离子溶液，稀土离子溶液浸没氧化钆靶（4）；

2）调节激光器（1）的脉冲激光光束的光路，使激光光束依次经过全反射镜（2）和聚焦透镜（3）后聚焦在氧化钆靶（4）与稀土离子溶液的接触表面，接触表面产生等离子体羽；

3）开启脉冲激光，在激光的作用下进行液体环境中脉冲激光烧蚀反应；

4）反应30～60分钟后，关闭脉冲激光，然后取出反应后的稀土离子溶液，并对其进行干燥、分离，最后得到所需的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂。

2.根据权利要求1所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：步骤4）中采用去离子水反复洗净干燥后的稀土离子溶液产物，以实现分离，之后再对分离后的产物进行烘干，便可得到所需的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂。

3.根据权利要求1所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述的稀土离子溶液为镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥稀土离子溶液中的一种或两种以上的组合。

4.根据权利要求3所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：所述的稀土离子溶液为氯化或硝酸物，浓度为1mmol/L-10mmol/L。

5.根据权利要求1所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述稀土离子溶液的上表面高出氧化钆靶（4）上表面5-10mm。

6.根据权利要求1所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：步骤1）中所述氧化钆靶（4）的纯度为99％-99.999％，厚度为3-5mm，其表面经过磨平处理。

7.根据权利要求1或6所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：所述氧化钆靶（4）的形状为圆形或方形。

8.根据权利要求1所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：所述脉冲激光的频率为1～10Hz。

9.根据权利要求1所述的纳米稀土掺杂氧化钆双模态造影剂的制备方法，其特征在于：所述反应容器（5）为玻璃容器或塑料容器。