[发明专利]一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版及制作方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及半导体制造技术领域，更具体地说，涉及一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版及制作方法。 

【背景技术】

当前高像素密度的OLED（有机发光二极管，又称为有机电激光显示，具有自发光的特性）显示面板的生产需要采用厚度很薄、热膨胀系数小的精细金属掩膜版（Fine Metal Mask，FMM）来作为掩膜版（或称荫罩板），用来蒸镀OLED面板像元内的有机发光体（三基色）。 

OLED用精细金属掩膜版通常使用因瓦合金（INVAR，又称殷钢）通过化学刻蚀的方法来制备，首先在因瓦合金表面涂覆光刻胶或感光干膜，通过曝光的方式将掩膜板的精细图案转移在感光膜上，再通过显影和化学刻蚀的方式最后制成精细金属掩膜版。 

通常精细金属掩膜版的厚度只有30-200um，既薄又脆，将精细金属掩膜版贴在蒸镀有机发光体像元的基板（玻璃片或柔性的基材）表面，并保持很高的位置精度是非常困难的。需要将精细金属掩膜版采用激光焊接在金属框架上才能使用。在焊接过程中，由于要对金属掩膜版施加的张力不均匀或热效应等因素，很容易产生移位或损坏这张很薄的金属掩膜版。 

另外，由于OLED的制备过程，每隔一段时间就必须通过清洁来阻止精细金属掩膜版中的图案因残留物质引起的缺陷，非常容易导致精细金属掩膜版中某些图像单元的损坏，因此精细金属掩膜版大约每两个月就必须进行更换。由于以上各因素使得OLED显示面板生产过程中，用于精细金属掩膜版的成本相当昂贵。 

【发明内容】

本发明的目的是克服了现有技术中的不足而提供一种效果好、成本低的新型精细金属掩膜版。 

本发明的另一目的是克服了现有技术中的不足而提供一种效果好、成本低的新型精细金属掩膜版的制作方法。 

为了解决上述存在的技术问题，本发明采用以下的技术方案： 

一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版，其特征在于：包括有在金属基板上设置多个通孔2形成的边框1，在边框1的上表面电铸有一层精细掩膜4从而使精细掩膜4与边框1结合为一体，所述精细掩膜4划分有精细结构部分形成的图形区域41和边框区域42，所述图形区域41与边框上的通孔2相对应。 

如上所述的一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版，其特征在于：所述边框1包括有四周支撑精细掩膜4的外部边框11及内部支撑精细掩膜4的内部分隔框12。 

如上所述的一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版，其特征在于：所述边框1上还设有多个定位掩膜版的对位孔(13)；所述边框1的材质为因瓦合金或不锈钢板。 

如上所述的一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版，其特征在于：所述精细掩膜4包括有热膨胀系数低的金属层和金属衬底层3。 

如上所述的一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版，其特征在于：所述金属层由镍、钼、铬、铂、锡中的两组分或两组分以上组成的镍铁合金制成。 

一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版的制作方法，其特征在于包括有如下步骤： 

A.准备金属基板：将因瓦合金板或不锈钢板开料，使之符合设计尺寸，形成金属基板101； 

B.制作精细掩膜：在金属基板101上涂覆光阻层202，将需要的图案显影在金属基板101上的光阻层，再依次电铸上金属衬底层3和热膨胀系数低的金属层，形成掩膜版的精细掩膜4； 

C.腐蚀基板：在精细掩膜上划有图形区域41，通过化学刻蚀的方法将图形区域41背部对应片区的金属基板101腐蚀掉，形成通孔2，留下外部边框11和内部分隔框12，使外部边框11和内部分隔框12共同支撑起精细掩膜(4)。 

如上所述的一种OLED显示面板生产用新型精细金属掩膜版的制作方法，其特征在于： 

上述B步骤包括有如下小步骤： 

B₁、清洗：将金属基板101通过酸洗，有机溶剂及去离子水超声波清洗干净5-15min，并放置到洁净干燥箱中烘干； 

B₂、金属基板加光阻：在金属基板101的上、下层分别涂覆光阻层202，在下层光阻层202的下底面粘贴有光阻保护膜203；