[发明专利]一种制备微纳米硅基超疏水涂层的方法及其用途

权利要求书

1.一种常压有氧气氛条件下热分解氧化硅胶制备微纳米硅基超疏水涂层的方法及其用途，其特征在于在常压有氧气氛条件下，通过150℃～330℃加热使硅胶分解，分解产生的蒸气在300℃～380℃温度下进行氧化沉积10～180min，最后在不同基底上制备出具有光学增透、无色透明或者彩色微纳米硅基超疏水涂层。

2.如权利要求1所述的超疏水涂层制备方法，其特征在于硅胶包括但不仅限于脱酸型硅胶、脱醇型硅胶、脱肟型硅胶、脱丙型硅胶和脱酰胺型硅胶的一种或几种。

3.如权利要求1所述的超疏水涂层制备方法，其特征在于所述的有氧气氛条件是指N₂和O₂的混合气体，其中N₂与O₂较佳的体积比V_N2/V_O2为3～5。

4.如权利要求1所述的超疏水涂层制备方法，其特征在于基底包括但不仅限于玻璃片、铝片、铁片、铜片、不锈钢片以及其它能耐温在300℃以上的基底。