[发明专利]增透膜的制造方法无效
| 申请号： | 201310411812.0 | 申请日： | 2013-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN104422971A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 麦清灵;谢祥斌 | 申请（专利权）人： | 佛山普立华科技有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528051 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 增透膜 制造 方法 | ||
1.一种增透膜的制造方法，其利用真空镀膜方法在一基底上依次轮替镀多个高折射率层及多个低折射率层；该高折射率层为氟化镁，该低折射率层为二氧化钛及氧化镨的混合物。
2.如权利要求1的增透膜的制造方法，其特征在于，在镀膜前，利用超声波清洗方法清洗该基底。
3.如权利要求1的增透膜的制造方法，其特征在于，在镀膜前提供一真空镀膜装置，并将该真空镀膜装置抽真空并加热。
4.如权利要求3的增透膜的制造方法，其特征在于，该真空镀膜装置抽真空至2.0×10-3帕左右，并加热至300摄氏度左右。
5.如权利要求3的增透膜的制造方法，其特征在于，镀膜前，该基底在该真空镀膜装置的真空高温环境下烘烤。
6.如权利要求5的增透膜的制造方法，其特征在于，该基底的烘烤时间为60分钟左右。
7.如权利要求3的增透膜的制造方法，其特征在于，该真空镀膜装置包括一坩埚、一电子枪及一膜厚监控水晶片，该坩埚用于收容该高折射率层及该低折射率层的原料，该电子枪用于发射电子束以轰击、蒸发原料进行蒸镀，该膜厚监控水晶片用于监控该高折射率层及该低折射率层的增厚速率、膜厚。
8.如权利要求7的增透膜的制造方法，其特征在于，蒸镀该高折射率层及该低折射率层时，该电子枪的工作电流分别约为25mA及330mA，该高折射率层及该低折射率层的增厚速率分别约为4埃/秒及4.1埃/秒。
9.如权利要求3的增透膜的制造方法，其特征在于，该真空镀膜装置还包括一气体入口，用于在蒸镀该低折射率层时导入氧气。
10.如权利要求9的增透膜的制造方法，其特征在于，在蒸镀该低折射率层时，该真空镀膜装置内的氧气压强约为1.0×10-2帕。
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