[发明专利]一种SiC/ZrC叠层分布的陶瓷基复合材料的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310412160.2 申请日: 2013-09-11
公开(公告)号: CN103738012A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 陈照峰;余盛杰 申请(专利权)人: 太仓派欧技术咨询服务有限公司
主分类号: B32B18/00 分类号: B32B18/00;C04B35/83;C04B35/56;C04B35/565;C04B35/622
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地址: 215400 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 sic zrc 分布 陶瓷 复合材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种SiC/ZrC叠层分布的陶瓷基复合材料的制备方法,其特征在于包括以下顺序的制备步骤:

(1)采用平纹编织的碳布叠层制备二维碳纤维预制体;

(2)采用CVI在碳纤维预制体上沉积热解C,经高温石墨化处理制成多孔C/C预制体;

(3)将烘干好的多孔C/C预制体放入石墨坩埚中;

(4)把Si放在多孔C/C预制体的上表面;

(5)将石墨坩埚放入管式炉中加热,管式炉升温速率为8~10℃/min,加热到1400~1600℃,保温1~3h后随炉冷却,Si熔体依靠毛细管力浸渗到多孔体中反应形成SiC,炉内真空度为8~12Pa;

(6)从冷却后的坩埚中取出渗Si后的C/C-SiC复合材料,在其渗Si的上表面沉积热解C,并高温石墨化处理为多孔C层基体;

(7)将上表面有多孔C层的C/C-SiC复合材料放入坩埚中,把Zr放在多孔C层上;

(8)再次将石墨坩埚放入管式炉中加热,管式炉升温速率为8~10℃/min,加热到1900~2100℃,保温0.5~1.5h后随炉冷却,炉内真空度为8~12Pa,Zr熔体依靠毛细管力浸渗到多孔C层中反应形成ZrC,至此获得SiC/ZrC叠层分布的陶瓷基复合材料。

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