[发明专利]基板清洁装置

权利要求书

1.一种基板清洁装置，包括：

用于传送基板的多个传送滚筒；

将液体化学物供应到所述基板的第一表面的液体化学物供给器；

其中所述液体化学物供给器包括：

壳体；和

清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述壳体内并且具有被配置为与所述基板接触的上部分。

2.根据权利要求1所述的基板清洁装置，进一步包括：

纯净水供给器，用于将纯净水供应到所述基板的所述第一表面，被配置为去除被供应到所述第一表面的所述液体化学物的至少一部分，

其中所述纯净水供给器包括：

壳体；和

清洁滚筒，该清洁滚筒被能旋转地安装在所述纯净水供给器的所述壳体内并且具有被配置为与所述基板接触的上部分。

3.根据权利要求1所述的基板清洁装置，进一步包括：

空气供应单元，安装在所述基板的第二表面的上部分上，以便防止所述液体化学物喷溅到所述基板的所述第二表面。

4.根据权利要求2所述的基板清洁装置，进一步包括：

空气供应单元，安装在所述基板的上表面的上部分上，以便防止所述液体化学物和所述纯净水喷溅到所述基板的所述上表面。

5.根据权利要求2所述的基板清洁装置，其中所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个进一步包括：

将液体供应到所述壳体的内部的泵；和

存储被供应到所述壳体的内部的液体的液体存储罐；

其中所述清洁滚筒的一部分浸入被供应到所述壳体的内部的所述液体中。

6.根据权利要求3所述的基板清洁装置，其中所述清洁滚筒包括圆柱形主体和位于所述圆柱形主体的外圆周表面的多个刷子。

7.根据权利要求3所述的基板清洁装置，进一步包括：

喷溅防止构件，布置为在比所述清洁滚筒的旋转中心轴线高的位置处与所述清洁滚筒相邻，以便当用大量液体浸渍的所述清洁滚筒旋转时防止液体沿所述壳体的向上方向喷溅。

8.根据权利要求7所述的基板清洁装置，其中所述喷溅防止构件被定位为低于所述基板并且高于所述清洁滚筒的所述旋转中心轴线。

9.根据权利要求7所述的基板清洁装置，其中所述喷溅防止构件为被布置为与所述旋转中心轴线平行的管。

10.根据权利要求7所述的基板清洁装置，其中所述喷溅防止构件被形成为在所述清洁滚筒的上部分的两侧的一对喷溅防止构件。

11.根据权利要求2所述的基板清洁装置，其中所述壳体的长度方向为所述清洁滚筒的轴线延伸的方向，并且

当所述清洁滚筒的所述轴线延伸的方向垂直于所述基板的传送方向时，平行于所述基板的所述传送方向的所述壳体的宽度长于所述清洁滚筒的直径。

12.根据权利要求2所述的基板清洁装置，进一步包括位于所述壳体的上表面上的盖，所述盖被配置为防止所述液体随着所述清洁滚筒的旋转而被喷溅。

13.根据权利要求12所述的基板清洁装置，其中所述盖被形成为在所述清洁滚筒的两侧的一对喷溅防止盖，并且

所述清洁滚筒的上端部分伸出到所述一对喷溅防止盖之间的开口。

14.根据权利要求4所述的基板清洁装置，其中所述空气供应单元包括一对气刀，并且

所述一对气刀位于所述液体化学物供给器和所述纯净水供给器中的每一个的上方。

15.根据权利要求14所述的基板清洁装置，其中当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述一对气刀位于所述清洁滚筒的前侧和后侧。

16.根据权利要求15所述的基板清洁装置，其中在所述一对气刀中，位于所述前侧的气刀向所述后侧倾斜，并且位于所述后侧的气刀向所述前侧倾斜。

17.根据权利要求2所述的基板清洁装置，其中当沿所述基板的所述传送方向观看时，所述纯净水供给器位于所述液体化学物供给器的后侧。

18.根据权利要求2所述的基板清洁装置，其中所述纯净水供给器的数量为多个。