[发明专利]一种(Nb/C/SiC)n多层抗氧化涂层及其制备方法有效
申请号: | 201310412249.9 | 申请日: | 2013-09-11 |
公开(公告)号: | CN103739311A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 陈照峰;汪洋 | 申请(专利权)人: | 太仓派欧技术咨询服务有限公司 |
主分类号: | C04B41/90 | 分类号: | C04B41/90 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215400 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 nb sic sub 多层 氧化 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种(Nb/C/SiC)n多层抗氧化涂层,具有重复叠层结构,其特征在于由SiC层、C层和Nb层三种材料重复叠层组成。
2.根据权利要求1所述的多层抗氧化涂层,其特征在于所述的重复叠层结构中每一组循环包括SiC层、C层、Nb层和C层四层,循环次数为2~5次,Nb层的两侧都是C层,SiC的两侧都是C层,最外层为SiC层。
3.根据权利要求1所述的多层抗氧化涂层,其特征在于所述的SiC层的厚度为10~30μm。
4.根据权利要求1所述的多层抗氧化涂层,其特征在于所述的C层的厚度为5~20μm。
5.根据权利要求1所述的多层抗氧化涂层,其特征在于所述的Nb层的厚度为5~20μm。
6.一种(Nb/C/SiC)n多层抗氧化涂层的制备方法,其特征在于包括下述顺序的步骤:
(1)采用化学气相沉积的方法在石墨或者C/C复合材料的表面沉积一层SiC层;SiC层的沉积条件如下:三氯甲基硅烷为前驱体,氩气为稀释气,氢气为载气,沉积温度800~1200℃,沉积时间5~20h;
(2)通过化学气相沉积法沉积C层,C层的沉积条件如下:以甲烷为源物质,氩气为稀释气体,沉积温度为800~1200℃,沉积时间3~10h;
(3)通过化学气相沉积法沉积Nb层,Nb层的沉积条件如下:以金属Nb为源物质,氩气为稀释气,氯气为反应气体,沉积温度为1000~1600℃,沉积时间3~10h;
(4)重复(2)(1)(3);
(5)重复(4)2~5次;
(6)重复(2);
(7)重复(1)。
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