[发明专利]包括防沉积单元的薄膜沉积装置及其去除沉积物的方法

权利要求书

1.一种薄膜沉积装置，包括：

腔室；

沉积单元，设置在所述腔室中并且被配置为将原料沉积到基板上；以及

防沉积单元，设置在所述腔室中，并且包括至少一个防沉积板和耦合到所述防沉积板的一个表面上的变形单元，所述变形单元包括由于外部应力能量导致变形的材料，

其中，所述变形单元包括形状记忆合金，

所述变形单元具有线形状并且与所述防沉积板的所述一个表面接触，

所述至少一个防沉积板包括第一防沉积板和第二防沉积板，并且，

所述变形单元被设置在所述第一防沉积板与所述第二防沉积板的相对的表面之间。

2.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中，

所述至少一个防沉积板包括金属板。

3.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中，

所述变形单元的外表面与所述第一防沉积板和所述第二防沉积板的相对的表面接触。

4.如权利要求1所述的薄膜沉积装置，其中，

所述防沉积单元被设置在所述腔室与成膜区域之间，成膜层待形成在所述成膜区域中。

5.一种去除薄膜沉积装置的沉积物的方法，所述方法包括：

从所述薄膜沉积装置的腔室分离防沉积单元，所述防沉积单元包括至少一个防沉积板和耦合到所述至少一个防沉积板的外表面上的变形单元；以及

从所述防沉积板去除成膜层。

6.如权利要求5所述的方法，其中，

所述至少一个防沉积板包括第一防沉积板和第二防沉积板，并且，

所述变形单元被设置在所述第一防沉积板与所述第二防沉积板的相对的表面之间。

7.如权利要求6所述的方法，其中，

所述变形单元包括形状记忆合金。

8.如权利要求7所述的方法，其中，

所述变形单元具有线形状，并且所述变形单元的外表面与所述第一防沉积板和所述第二防沉积板的相对的表面接触。

9.如权利要求5所述的方法，其中，所述从所述防沉积板去除所述成膜层的步骤包括：

将所述防沉积单元载入到恒温槽中；

分离所述成膜层的多个部分与所述防沉积单元之间的界面；

通过使用气体吹扫工艺从所述防沉积单元去除所述成膜层；以及

从所述恒温槽取出所述防沉积单元。

10.如权利要求9所述的方法，其中，

所述恒温槽被维持在高于或等于使所述变形单元变形的温度。

11.如权利要求9所述的方法，进一步包括：

在取出所述防沉积单元之后执行洗涤工艺和烘干工艺。

12.如权利要求5所述的方法，进一步包括：

将所述防沉积单元安装在所述腔室中；以及

通过设置在所述腔室中的沉积单元将沉积用原料沉积到基板上。