[发明专利]液晶取向装置及方法、对盒基板及液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种液晶取向装置及方法、对盒基板及液晶显示装置。 

背景技术

在液晶显示装置包括液晶取向层，用以提供液晶分子一个预偏角度，以提高反应速度或实现大的观看视角；且可以通过液晶取向层实现相互垂直的两种液晶取向——这种取向为垂直双畴取向，通常应用于IPS——In-Plane Switching平行转换电场模式、ADSDS（ADvanced Super Dimension Switch）高级超维场转换模式以及FFS（Fringe-Field Switching）边缘场开关模式显示装置中。 

采用垂直双畴取向能有效的减小不同视角上的色差，提高显示效果。但是现有的制作工艺——摩擦工艺无法在小区域内形成不同的液晶取向取向。故在形成垂直双畴取向时，通常将显示装置划分为几个大的区域，在相邻的区域内形成的垂直双畴取向。采用上述方法形成的垂直双畴取向在不同视角上还是存在色差。显然一个亚像素内形成两种相互垂直的取向，在改良不同视角色差的效果相对在不同区域内形成垂直双畴取向的更加明显，但是现有的工艺的局限无法形成。 

发明内容

（一）发明目的 

针对上述问题，本发明旨在提供一种在待取向液晶基板中的一个亚像素内简便形成垂直双畴取向且制作成本低的液晶取向装置及方法、对盒基板及液晶显示装置。 

（二）技术方案 

为达上述目的，本发明液晶取向装置，包括紫外光源以及掩膜板； 

所述紫外光源用以发射紫外光； 

所述掩膜板包括第一掩膜区域和第二掩膜区域，所述第一掩膜区域用以使透过其的紫外光形成第一方向线性偏振光，所述第二掩膜区域用于使透过其的紫外光形成垂直于所述第一方向的第二方向线性偏振光； 

所述第一掩膜区域和所述第二掩膜区域均由多个同形状等大小的条状结构组成； 

所述第一掩膜区域和所述第二掩膜区域间隔分布； 

所述第一掩膜区域和所述第二掩膜区域的宽度均等于待取向液晶基板中的半个亚像素的高度。 

优选地， 

所述紫外光源发射的紫外光为自然光； 

所述掩膜板包括偏光片以及位于所述偏光片出光侧的多个λ/2相位延迟膜；所述λ/2相位延迟膜的快轴或者慢轴与所述偏光片透过轴成45度夹角；所述λ为所述紫外光的波长； 

所述第一掩膜区域包括所述λ/2相位延迟膜以及与所述λ/2相位延迟膜重叠部分的所述偏光片； 

所述第二掩膜区域包括相邻两所述λ/2相位延迟膜之间的所述偏光片。 

优选地，所述紫外光源发射的紫外光为线性偏振光； 

所述掩膜板包括透明基板以及多个位于所述透明基板上的λ/2相位延迟膜；所述λ为由所述线性偏振光的波长； 

所述第一掩膜区域包括所述λ/2相位延迟膜以及与所述λ/2相位延迟膜重叠部分的所述透明基板； 

所述第二掩膜区域包括相邻两所述λ/2相位延迟膜之间的所述透明基板。 

优选地，所述紫外光源发射的紫外光为圆偏光； 

所述掩膜板包括透明基板以及位于所述基板上间隔分布的若干λ/4相位延迟膜以及-λ/4相位延迟膜； 

所述第一掩膜区域包括所述λ/4相位延迟膜以及与所述λ/4相位延迟膜重叠部分的所述透明基板； 

所述第二掩膜区域包括所述-λ/4相位延迟膜以及与所述-λ/4相位延迟膜重叠部分的所述透明基板； 

所述λ为所述圆偏光的波长。 

为达上述目的，本发明液晶取向层制作方法，包括： 

在衬底基板上形成含光敏取向成分的制作原料； 

将上述液晶取向装置的掩膜板覆盖在所述形成有制作原料的基板上，并使第2n条第一掩膜区域与第2n+1条第二掩膜区域覆盖住待取向液晶基板的同一个亚像素；n为0或偶数； 

打开所述液晶取向装置的紫外光源，使发射的紫外光透过所述掩膜板照射所述制作原料。 

为达上述目的，本发明对盒基板，包括基板，在所述基板设有采用上述液晶取向层制作方法制作的液晶取向层。 

优选地，所述对盒基板为阵列基板或彩膜基板。 

为达上述目的，本发明液晶显示装置，其特征在于，包括如上所述的对盒基板。 

（三）本发明掩液晶取向装置及方法、对盒基板及液晶显示装置的有益效果