[发明专利]铬铝硅合金靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种铬铝硅合金靶材，其特征在于，按原子百分比由以下成分组成：铬5-75%，铝10-90%，硅1-20%。

2.根据权利要求1所述的铬铝硅合金靶材，其特征在于，按原子百分比由以下成分组成：铬40%，铝50%，硅10%。

3.根据权利要求1所述的铬铝硅合金靶材，其特征在于，所述合金靶材的相对密度超过99%，平均晶粒尺寸不大于100μm。

4.权利要求1-3任一所述铬铝硅合金靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，合金粉末的制备；

步骤二，对制备好的所述合金粉末进行冷等静压处理；

步骤三，对所述冷等静压处理后的料坯进行脱气处理；

步骤四，对所述脱气处理后的料坯进行热等静压处理；

步骤五，对所述热等静压处理后的料坯进行机加工，清洗后得到所需要的成品合金靶材。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤一中，所述合金粉末是采用雾化制粉方法制备的或者在混料机中直接将平均粒径符合要求的原料进行混合来制备的。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在混料机中直接将平均粒径符合要求的原料进行混合是指于真空或惰性气体保护条件下在V型混料机中混合3-5h。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述合金粉末的平均粒径为30-150μm。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤二中，在20-200MPa压力下进行冷等静压处理，保压时间为10-30min。

9.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤三中，所述脱气处理的温度为300-500℃，脱气时间为5-30h；优选地，所述脱气处理时的真空度控制在10^-1Pa～10^-4Pa。

10.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤四中，所述热等静压处理的保温温度为800-1300℃，保温时间为2-5h，压力为120-150MPa。