[发明专利]一种光扩散薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光扩散薄膜，由高分子基体和光扩散剂通过溶液法成型，其特征在于，其组成按重量配比为：

高分子基体     95.0~99.9%，

光扩散剂       0.1%~5.0%。

2.根据权利要求1所述的一种光扩散薄膜，其特征在于，所述薄膜总厚度在0.05-0.99mm之间。

3.根据权利要求1所述的一种光扩散薄膜，其特征在于，所述高分子基体材料选用折射率为1.3-1.8的高分子材料。

4.根据权利要求1所述的一种光扩散薄膜，其特征在于，所述高分子基体为聚碳酸脂、聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的一种或者几种所形成的混合材料。

5.根据权利要求1所述的一种光扩散薄膜，其特征在于，所述的光扩散剂包括有机硅树脂球形微粉、聚苯乙烯、二氧化硅、二氧化钛和氧化镁的一种或几种混合物。

6.一种光扩散薄膜的制备方法，用于制备根据权利要求1所述光扩散薄膜，其特征在于，包括如下步骤：

1）按重量配比称取高分子材料、光扩散剂；

2）将高分子材料溶解于有机溶剂中；

3）将光扩散剂粉体加入溶有高分子材料的有机溶剂中，40℃恒温搅拌12小时；

4）用滴管移取1-3ml溶液于载玻片上，在匀胶机上以600r/min预转10s，再以2000r/min转30s，于80℃下干燥；再滴加分散液，与之前相同的预转速和转速使其平铺，烘干，以此往复10-50次。

7.根据权利要求6所述的一种光扩散薄膜的制备方法，其特征在于，步骤3）所述的有机溶剂为四氯乙烷或二氯甲烷中的一种。