[发明专利]用低温等离子体聚合沉积制备的防水皮革及其方法有效
申请号: | 201310421788.9 | 申请日: | 2013-09-16 |
公开(公告)号: | CN103468835A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 廖学品;冯亚娥;石碧;周建飞;张文华;曹明蓉 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C14B7/00 | 分类号: | C14B7/00 |
代理公司: | 成都科海专利事务有限责任公司 51202 | 代理人: | 唐丽蓉 |
地址: | 610065 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低温 等离子体 聚合 沉积 制备 防水 皮革 及其 方法 | ||
1.用低温等离子体聚合沉积制备防水皮革的方法,该方法的工艺步骤及条件如下:
1)将硅氧烷类或丙烯酸类或丙烯酸酯类或含氟丙烯酸酯类或氟硅烷类单体中的至少一种放入汽化罐内,然后将皮革的待处理面向上放入等离子体反应设备的反应腔内,再将汽化罐与等离子体反应设备连通;
2)抽真空使汽化罐和等离子体反应设备的反应腔内的真空度达到25-45Pa,同时将汽化罐的温度升至25-50℃,使汽化罐内的单体汽化后,以7×10-5-9×10-4ml/min·cm2的流量进入等离子体反应设备的反应腔体中,在放电反应功率为0.15-1.5W/cm2下,反应1-25min,即可得到聚合沉积具有防水表面的皮革。
2.根据权利要求1所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的硅氧烷类化合物为六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、六甲基二硅氧烷和乙烯基三乙氧基硅烷;丙烯酸类单体为丙烯酸和甲基丙烯酸;丙烯酸酯类单体为丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯和甲基丙烯酸甲酯;含氟丙烯酸酯类单体为丙烯酸六氟丁酯、甲基丙烯酸六氟丁酯、甲基丙烯酸十二氟庚酯、丙烯酸十三氟辛酯和甲基丙烯酸十三氟辛酯;氟硅烷类单体为十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷、十二氟庚基丙基甲基二甲氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷和4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷。
3.根据权利要求1所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的真空度为25-35Pa;所述的温度为25-45℃。
4.根据权利要求1所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的流量为7×10-5-8×10-4ml/min·cm2。
5.根据权利要求1或2或3或4所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的功率为0.15-1.0W/cm2。
6.根据权利要求1或2或3或4所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的反应时间为5-20min。
7.根据权利要求5所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的反应时间为5-20min。
8.根据权利要求1或2或3或4所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的皮革为未经涂饰的正面革、绒面革、磨砂革或毛革两用皮革中的任一种。
9.根据权利要求7所述的用低温等离子体聚合沉积制备防水性皮革的方法,该方法中所述的皮革为未经涂饰的正面革、绒面革、磨砂革或毛革两用皮革中的任一种。
10.用权利要求1所述的低温等离子体聚合沉积制备的防水皮革,该皮革表面聚合沉积的防水膜的厚度为微米级或以下,其静态接触角为136-155°,滚动角为7-22°,且从扫描电子显微镜中观察,可见清晰交织的胶原纤维。
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