[发明专利]采用放大自发辐射光源测试光学元件损伤阈值装置和方法无效
申请号: | 201310422557.X | 申请日: | 2013-09-16 |
公开(公告)号: | CN104062299A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 周琼;庄亦飞;冯滔;朱健强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 放大 自发辐射 光源 测试 光学 元件 损伤 阈值 装置 方法 | ||
1.一种采用放大自发辐射光源测试光学元件损伤阈值装置,特征在于该装置包括ASE光源(1)、能量衰减器(2)、λ/2波片(3)、第一反射镜(4)、第二反射镜(5)、第三反射镜(6)、第四反射镜(7)、第一平凸透镜(8)、平凹透镜(9)、楔形取样镜(10)、供待测光学元件设置的样品平台(11)、小孔光阑(12)、第二平凸透镜(13)、能量计(14)、CCD探测器(15)和计算机(16),沿所述的ASE光源(1)的激光输出方向依次是所述的能量衰减器(2)、λ/2波片(3)、第一高反镜(4)、第四高反镜(7)、第一平凸透镜(8)、平凹透镜(9)、楔形取样镜(10)和待测光学元件,在所述的楔形取样镜(10)的反射光方向分别设有第二高反镜(5)和第三高反镜(6),在第二高反镜(5)的反射光方向是所述的CCD探测器(15),在第三高反镜(6)的反射光方向依次是所述的小孔光阑(12)、第二平凸透镜(13)和能量计(14),所述的计算机(16)的输出端与所述的样品平台(11)的控制端相连,所述的CCD探测器(15)的输出端与所述的计算机(16)的第一输入端相连,所述的能量计(14)的输出端与所述的计算机(16)的第二输入端相连,所述的计算机(16)具有采集光场分布和光束能量的软件以及控制样品平台(11)的驱动软件。
2.利用权利要求1所述的装置对光学元件损伤的测试方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
①将待测光学元件置于待测样品平台(11)上,在计算机的软件界面设置待测样品的移动步长、每行测试点数m及行数n;
②所述的ASE光源(1)辐照测试点时采用1-on-1的方法:所述的计算机(16)驱动所述的ASE光源(1)对对测试点辐照一个光脉冲,所述的CCD探测器(15)记录光场分布和所述的能量计(14)记录ASE光源能量大小送入所述的计算机(14)存储;所述的计算机驱动待测样品平台(11)控制待测光学元件沿X的方向移动一个步长,保持辐照的能量密度相等地进行辐照测量,直至第i=1行中m个测试点辐照完;
③辐照完一行测试点后,减小ASE光源的能量密度,计算机控制样品沿着Y方向移动一个步长,重复步骤②,继续辐照另一行的m个测试点;
④重复步骤③,直到样品表面某行m个点均未发现有损伤;
⑤计算机统计每行测试点产生损伤的点数,计算每行测试点损伤几率,即损伤几率=损伤点数/受辐照点数m;
⑥计算机以ASE能量密度为横轴,损伤几率为纵轴,生成损伤几率与激光能量密度对应的分布图,通过拟合出零损伤几率,计算并显示被测样品的ASE损伤阈值。
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