[发明专利]双模态肿瘤靶向纳米粒子显像剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310425589.5 申请日: 2013-09-17
公开(公告)号: CN103480009A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 杨志;朱华;林新峰;洪业 申请(专利权)人: 北京肿瘤医院
主分类号: A61K51/08 分类号: A61K51/08;A61K49/00;A61K103/20
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 穆宏平
地址: 100142*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双模 肿瘤 靶向 纳米 粒子 显像 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.肿瘤靶向纳米粒子,其特征在于,其为偶联有RGD肽的NIRF-CCPM纳米粒子;所述RGD肽为精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸。

2.制备权利要求1所述纳米粒子的方法,其特征在于,用螯合剂DTPA对NIRF-CCPM纳米粒子表面氨基进行修饰,然后用交联剂GMBS对NIRF-CCPM纳米粒子表面氨基进行进一步修饰,所得纳米粒子通过巯基与RGD肽偶联,即得。

3.权利要求1所述纳米粒子在制备肿瘤双模态显像剂中的应用。

4.权利要求1所述纳米粒子在制备整合素αvβ3受体肿瘤双模态显像剂中的应用。

5.一种双模态肿瘤靶向纳米粒子显像剂,其特征在于,以权利要求1所述的纳米粒子作为标记前体,使用时进行111In核素标记。

6.制备权利要求5所述显像剂的方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)用NCS-Bz-DTPA对NIRF-CCPM纳米粒子表面氨基进行修饰,得到DTPA-NIRF-CCPM,然后用交联剂GMBS对纳米粒子表面氨基进行进一步修饰,得到DTPA-NIRF-CCPM-GMBS,并以PD-10柱分离;

2)纳米粒子的靶向修饰:对RGD肽进行巯基修饰,得到RGD-SH,然后将RGD-SH偶联至上述分离得到的纳米粒子表面,形成肿瘤靶向纳米粒子DTPA-NIRF-CCPM-RGD,用PD-10柱分离后作为标记前体;

3)标记:对DTPA-NIRF-CCPM-RGD进行111In核素标记,得到双模态肿瘤靶向纳米粒子显像剂,即111In-NIRF-CCPM-RGD。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤1)具体为:按照NIRF-CCPM表面上氨基数目与NCS-Bz-DTPA的摩尔比1:1-3混合,避光反应24h,然后按照NIRF-CCPM纳米粒子与GMBS的摩尔比1:3-8混合,避光反应2h;反应完成后用PD-10柱分离。

8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤2)具体为:按照DTPA-NIRF-CCPM-GMBS纳米粒子与RGD-SH的摩尔比1:10-50混合,反应完成后以PD-10柱分离。

9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤3)具体为:向标记前体中依次加入0.1M NaAc、185MBq111InCl3,室温反应20-30min,即得111In-NIRF-CCPM-RGD。

10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,111In-NIRF-CCPM-RGD的放射化学纯度大于95%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京肿瘤医院,未经北京肿瘤医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310425589.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top