[发明专利]双模态肿瘤靶向纳米粒子显像剂及其制备方法有效
申请号: | 201310425589.5 | 申请日: | 2013-09-17 |
公开(公告)号: | CN103480009A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 杨志;朱华;林新峰;洪业 | 申请(专利权)人: | 北京肿瘤医院 |
主分类号: | A61K51/08 | 分类号: | A61K51/08;A61K49/00;A61K103/20 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 穆宏平 |
地址: | 100142*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双模 肿瘤 靶向 纳米 粒子 显像 及其 制备 方法 | ||
1.肿瘤靶向纳米粒子,其特征在于,其为偶联有RGD肽的NIRF-CCPM纳米粒子;所述RGD肽为精氨酸-甘氨酸-天冬氨酸。
2.制备权利要求1所述纳米粒子的方法,其特征在于,用螯合剂DTPA对NIRF-CCPM纳米粒子表面氨基进行修饰,然后用交联剂GMBS对NIRF-CCPM纳米粒子表面氨基进行进一步修饰,所得纳米粒子通过巯基与RGD肽偶联,即得。
3.权利要求1所述纳米粒子在制备肿瘤双模态显像剂中的应用。
4.权利要求1所述纳米粒子在制备整合素αvβ3受体肿瘤双模态显像剂中的应用。
5.一种双模态肿瘤靶向纳米粒子显像剂,其特征在于,以权利要求1所述的纳米粒子作为标记前体,使用时进行111In核素标记。
6.制备权利要求5所述显像剂的方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)用NCS-Bz-DTPA对NIRF-CCPM纳米粒子表面氨基进行修饰,得到DTPA-NIRF-CCPM,然后用交联剂GMBS对纳米粒子表面氨基进行进一步修饰,得到DTPA-NIRF-CCPM-GMBS,并以PD-10柱分离;
2)纳米粒子的靶向修饰:对RGD肽进行巯基修饰,得到RGD-SH,然后将RGD-SH偶联至上述分离得到的纳米粒子表面,形成肿瘤靶向纳米粒子DTPA-NIRF-CCPM-RGD,用PD-10柱分离后作为标记前体;
3)标记:对DTPA-NIRF-CCPM-RGD进行111In核素标记,得到双模态肿瘤靶向纳米粒子显像剂,即111In-NIRF-CCPM-RGD。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤1)具体为:按照NIRF-CCPM表面上氨基数目与NCS-Bz-DTPA的摩尔比1:1-3混合,避光反应24h,然后按照NIRF-CCPM纳米粒子与GMBS的摩尔比1:3-8混合,避光反应2h;反应完成后用PD-10柱分离。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤2)具体为:按照DTPA-NIRF-CCPM-GMBS纳米粒子与RGD-SH的摩尔比1:10-50混合,反应完成后以PD-10柱分离。
9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤3)具体为:向标记前体中依次加入0.1M NaAc、185MBq111InCl3,室温反应20-30min,即得111In-NIRF-CCPM-RGD。
10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,111In-NIRF-CCPM-RGD的放射化学纯度大于95%。
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