[发明专利]液体喷墨头的制造方法、液体喷墨头和打印设备有效
申请号: | 201310432877.3 | 申请日: | 2013-09-22 |
公开(公告)号: | CN104441996A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 李越 | 申请(专利权)人: | 珠海纳思达企业管理有限公司 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 毕强 |
地址: | 519075 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 喷墨 制造 方法 打印 设备 | ||
1.一种液体喷墨头的制造方法,其特征在于,包括:
在基底上形成压力发生部件;
在所述基底的第一表面上形成压力腔室和公共腔室;
在所述压力腔室和公共腔室远离所述基底的表面上涂覆第一树脂胶,形成喷孔胶层;
对所述喷孔胶层进行灰度曝光处理,以在所述喷孔胶层上与所述压力腔室对应的位置处形成锥形的喷孔,沿远离所述压力腔室的方向,所述喷孔的横截面积逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在所述基底的第一表面上形成压力腔室和公共腔室,包括:
在所述基底的第一表面上涂覆第二树脂胶,形成第一胶层;
采用第一掩膜对所述第一胶层的第一区域进行曝光处理,形成公共腔室;
采用第二掩膜对所述第一胶层的第二区域进行曝光处理,形成压力腔室。
3.根据权利要求2所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述第一树脂胶为负性光敏树脂;
所述对所述喷孔胶层进行灰度曝光处理包括:
采用第三掩膜对所述喷孔胶层进行曝光处理,所述第三掩膜为灰度掩膜,所述第三掩膜的透光率从中间至两侧逐渐增大,以使喷孔壁固化;
对所述喷孔胶层进行显影处理,以去除所述喷孔胶层中未固化的部分,形成锥形的喷孔。
4.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成压力发生部件,包括:
在所述基底上蚀刻形成凹槽;
在所述凹槽内形成压电元件,包括采用溅射法依次形成下电极层、压电体层和上电极层;
在所述上电极层的表面形成振动板。
5.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成压力发生部件,包括:
在所述基底的第一表面上沉积形成振动板;
在所述振动板中远离所述基底的表面上形成压电元件,包括采用溅射法形成下电极层,溶胶凝胶法形成压电体层,溅射法形成上电极层,以使所述压力发生部件位于所述压力腔室内。
6.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成压力发生部件,包括:
在所述基底的第一表面上沉积形成薄膜电阻层。
7.根据权利要求3所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,还包括:
在所述基底中与所述第一表面相对的第二表面上,与所述公共腔室对应的位置处形成通透的供墨孔。
8.根据权利要求4所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,还包括:
在所述基底中与所述第一表面相对的第二表面上与所述压力腔室对应的位置处形成压电元件振动空间,以提供所述压电元件振动变形所需的空间。
9.根据权利要求8所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,还包括:
在所述压电元件两侧蚀刻形成缝隙,以提供所述压电元件振动变形所需的空间。
10.根据权利要求3-9任一项所述的液体喷墨头的制造方法,其特征在于,所述负性光敏树脂为负性光敏胶SU8。
11.一种液体喷墨头,其特征在于,所述液体喷墨头采用权利要求1-10任一项所述的液体喷墨头的制造方法制成。
12.一种打印设备,其特征在于,包括权利要求11所述的液体喷墨头。
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