[发明专利]一种产生均整X射线辐射场的装置以及方法有效

专利信息
申请号: 201310433778.7 申请日: 2013-09-23
公开(公告)号: CN104470179B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 康克军;唐传祥;唐华平;陈怀璧;黄文会 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视技术股份有限公司
主分类号: H05G1/52 分类号: H05G1/52
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 闫小龙,胡莉莉
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 产生 射线 辐射 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,具备:

多个电子加速器,用于产生高能电子束流;以及

公共靶单元,包括真空靶室、靶以及多个输入连接装置,

所述多个电子加速器分别与所述多个输入连接装置连接,

来自所述多个电子加速器的高能电子束流以两两彼此成预定夹角的方式轰击所述靶。

2.如权利要求1所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述多个输入连接装置安装在所述真空靶室的一侧,所述靶安装在所述真空靶室的与所述多个输入连接装置相对的另一侧,

所述多个输入连接装置的轴线以两两彼此成预定夹角的方式相交于一点。

3.如权利要求2所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述多个输入连接装置的轴线两两彼此所成的预定夹角相同。

4.如权利要求2所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述多个输入连接装置的轴线两两彼此所成的预定夹角不同。

5.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述靶是平面结构,从所述多个输入连接装置进入到所述真空靶室的电子束流相交于所述靶的真空侧平面上一点。

6.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述靶是球面结构,从所述多个输入连接装置进入到所述真空靶室的电子束流相交于所述球面的球心。

7.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述靶是L形结构,从所述多个输入连接装置进入到所述真空靶室的电子束流垂直入射到靶平面。

8.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述公共靶单元还具有:冷却装置,安装在所述真空靶室的外部并且包围所述靶的一个面,内部为管道或者空腔,能够使制冷剂在其内部循环流动,从而对所述靶进行冷却;制冷系统,与所述冷却装置相连,将恒定低温的冷却剂输送给所述冷却装置,并且将从所述冷却装置流回的高温制冷剂的温度降低到设定值。

9.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述公共靶单元还具有:真空系统,安装在所述公共靶单元的侧壁上,与所述真空靶室进行真空密封连接,使所述真空靶室在工作过程中维持高真空。

10.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述公共靶单元还具有:多个聚焦装置,安装在所述输入连接装置的外部;聚焦控制装置,与所述聚焦装置连接,控制所述聚焦装置的工作状态。

11.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述多个电子加速器具有相同的结构,并且,所述电子加速器是电子直线加速器,

所述电子加速器由电子发射单元、电子加速单元、输出连接装置、微波传输装置、微波功率源、电源与控制系统组成,

所述电子加速单元的一端与所述电子发射单元连接并且另一端与所述输出连接装置连接,所述电源与控制系统分别与所述电子发射单元以及所述微波功率源连接,所述微波功率源经由所述微波传输装置连接于所述电子加速单元,所述电源与控制系统连接到上一级电源与控制系统,

所述输出连接装置与所述公共靶单元的所述输入连接装置连接。

12.如权利要求1~4的任意一项所述的产生均整X射线辐射场的装置,其特征在于,

所述多个电子加速器具有相同的结构,并且,所述电子加速器是电子直线加速器,

所述多个电子加速器具有共同的电源与控制系统、微波功率源、微波功率分配装置,

所述多个电子加速器的每一个还包括电子发射单元、电子加速单元、输出连接装置、微波传输装置,

所述电子加速单元的一端与所述电子发射单元连接并且另一端与所述输出连接装置连接,所述电子发射单元连接于所述电源与控制系统,所述微波传输装置连接于所述电子加速单元,

所述输出连接装置与所述公共靶单元的所述输入连接装置连接。

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