[发明专利]一种钼硒酸盐发光薄膜及其制备方法和应用无效
申请号: | 201310442591.3 | 申请日: | 2013-09-25 |
公开(公告)号: | CN104449736A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 周明杰;陈吉星;王平;张振华 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
主分类号: | C09K11/88 | 分类号: | C09K11/88;H01L33/50 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钼硒酸盐 发光 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
技术领域
本发明涉及无机发光材料领域,尤其涉及一种钼硒酸盐发光薄膜及其制备方法和应用。
背景技术
与传统的发光粉制作的显示屏相比,发光薄膜在对比度、分辨率、热传导、均匀性、与基底的附着性、释气速率等方面都显示出较强的优越性。因此,作为功能材料,发光薄膜在诸如阴极射线管(CRTs)、电致发光显示(ELDs)及场发射显示(FEDs)等平板显示领域中有着广阔的应用前景。
薄膜电致发光显示器(TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角大、适用温度宽、工序简单等优点,已引起了广泛的关注,且发展迅速。目前,研究彩色及至全色TFELD,开发多波段发光的材料,是该课题的发展方向。然而,铕掺杂钼硒酸盐发光薄膜仍未见报道。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种钼硒酸盐发光薄膜及其制备方法和应用。
第一方面,本发明提供了一种钼硒酸盐发光薄膜,结构式为R2(MoSe4)3:xEu3+,其中,R2(MoSe4)3为基质,Eu3+为激活元素,R为Al、Ga、In或Tl,x的取值范围为0.01~0.05。
Eu3+是激活元素,在薄膜中充当主要的发光中心,在本材料体系中,其在5D0→7F2能级之间的跃迁辐射出620nm的红光。
优选地,x的取值为0.03。
优选地,发光薄膜的厚度为80~150nm。
更优选地,发光薄膜的厚度为150nm。
本发明制备了钼硒酸盐R2(MoSe4)3:xEu3+发光薄膜,以R2(MoSe4)3为基质,Eu3+是激活元素,在薄膜中充当主要的发光中心。本发明提供的铕掺杂钼硒酸盐发光薄膜(R2(MoSe4)3:xEu3+)在620nm位置附近有很强的红光的发光峰。钼硒酸盐发光薄膜中,基质钼硒酸盐具有较高的热学和力学稳定性,还具有着良好的光学透明性,较低的声子能量,为发光离子提供了优良的晶场,从而在光电能量转换的过程中产生较少无辐射跃迁,具有较高的发光效率。对于掺杂离子,Eu3+离子的能级丰富,可以不同的晶场激发比较宽范围的波长,在本材料体系中,其在5D0→7F2能级之间的跃迁辐射出620nm的红光。
第二方面,本发明提供了一种钼硒酸盐发光薄膜的制备方法,包括以下步骤:
以摩尔比为2:3:(0.01~0.05)的β-二酮金属化合物、六羰基钼和四甲基庚二酮酸铕为反应源;
在真空度为1.0×10-3~1.0×10-2Pa的气相沉积设备中,将衬底转速设置为50~1000转/分,通入含有反应源的惰性气体,气流量为5~15sccm,再通入硒化氢,在述衬底上沉积得到所述钼硒酸盐发光薄膜;
所述钼硒酸盐发光薄膜的结构式为R2(MoSe4)3:xEu3+,其中R为Al、Ga、In或Tl,x的取值范围为0.01~0.05。
优选地,x的取值为0.03。
本发明采用金属有机气相沉积设备(MOCVD)制备钼硒酸盐发光薄膜,以β-二酮金属化合物、六羰基钼和四甲基庚二酮酸铕为反应源,通过沉积得到发光薄膜。
β-二酮金属化合物表示为(DPM)3R,R为Al、Ga、In或Tl。β-二酮金属化合物为β-二酮螯合物,可以通过四甲基庚二酮和金属氯化物反应生成。化学反应式如下:
优选地,β-二酮金属化合物为β-二酮铝((DPM)3Al)、β-二酮镓((DPM)3Ga)、β-二酮铟((DPM)3In)或β-二酮铊((DPM)3Tl)。
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