[发明专利]一种醋酸酯加氢催化剂的制备方法

权利要求书

1.一种醋酸酯加氢催化剂的制备方法，所述催化剂在还原后包括：5-40份（重量）活性组分Cu；0-10份（重量）催化助剂M；50-95份（重量）多孔载体SiO₂,其中，M为Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Ce、B、Na、K、Sn、Y、La和Mo中的一种或至少两种，

所述方法依次包括以下步骤：

（A）制备包含活性组分Cu的前体和多孔载体SiO₂的前体的催化剂前驱体，或包含活性组分Cu的前体、催化助剂M的前体和多孔载体SiO₂的前体的催化剂前驱体；

（B）对上述催化剂前驱体进行低温等离子体处理；和任选地，

（C）焙烧上述等离子体处理后的催化剂前驱体，从而，得到所述催化剂。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述催化剂前驱体用浸渍法、沉淀法、尿素水解法或蒸氨法制备。

3.一种醋酸酯加氢催化剂的制备方法，所述催化剂在还原后包括：5-40份（重量）活性组分Cu；0-10份（重量）催化助剂M；50-95份（重量）多孔载体SiO₂,其中，M为Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Ce、B、Na、K、Sn、Y、La和Mo中的一种或至少两种，

所述方法依次包括以下步骤：

（1）制备活性组分Cu的前体-铜源和氨水的混合溶液、或按比例含有活性组分Cu的前体、催化助剂M的前体和氨水的铜源、M源和氨水的混合溶液；

（2）按比例向上述混合溶液中滴入硅源，再经过加热脱除混合溶液中的氨水，使溶液PH值降低，从而，均匀地产生沉淀物；

（3）对上述沉淀物进行洗涤、过滤和干燥，从而，得到催化剂前驱体；

（4）对上述催化剂前驱体进行低温等离子体处理；和任选地，

（5）焙烧上述等离子体处理后的催化剂前驱体，从而，得到所述催化剂。

4.根据权利要求1-3任何之一所述的制备方法，其中，活性组分Cu以Cu的金属和/或氧化物的形式存在于催化剂中；催化助剂M以M的金属和/或氧化物的形式存在于催化剂中。

5.根据权利要求1-3任何之一所述的制备方法，所述方法还包括以下步骤：

（6）对焙烧后所得到的催化剂进行还原。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其中，步骤（3）进行一次或重复进行多次。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其中，所述硅源包括硅酸钠、硅酸钾、硅溶胶、正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、正硅酸丁酯、正硅酸丙酯和/或二氧化硅粉体；所述铜源或M源包括铜或M的硝酸盐、醋酸盐、草酸盐、氯化物和/或硫酸盐。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其中，所述氨水的用量使步骤（1）中制备的混合溶液的PH值为7-14。

9.根据权利要求1-3任何之一所述的制备方法，其中，所述低温等离子体包括辉光放电等离子体或介质阻挡放电等离子体。

10.根据权利要求3所述的制备方法，其中，在步骤（1）中，通过加入氨水形成PH值为7-14的混合溶液；在步骤（2）中，向混合溶液中加入硅源后，搅拌混合溶液0.5-8小时，再在60-100℃下加热所述混合溶液，以脱除其中的氨水，直至所述混合溶液的PH值变为6-7，从而，均匀地产生沉淀物；在步骤（3）中，用去离子水洗涤和过滤所述沉淀物至少一次，并随后在80-140℃下干燥所述沉淀物1-24小时；在步骤（4）中，低温等离子体处理在以下条件下进行：处理气氛：氩气和/或空气，放电气体压力：常压或低压，放电功率50-300瓦，处理时间：15-60分钟；在步骤（5）中焙烧温度为300-550℃，焙烧时间为1-10小时。

11.根据权利要求5所述的制备方法，其中，在步骤（6）中，所述催化剂还原温度为200-350℃、还原时间为1-10小时、还原气氛为氢气或氢气与氮气的混合物。

12.一种醋酸酯加氢催化剂，所述催化剂用前述权利要求1-11任何之一所述的制备方法制备。

13.根据权利要求12所述的催化剂，其用于醋酸酯加氢制取乙醇。