[发明专利]磺化高分子/石墨烯纳米复合材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201310443373.1 | 申请日: | 2013-09-25 |
公开(公告)号: | CN104464888B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 刘振宇;李禄兴;曾吉永;吴总成 | 申请(专利权)人: | 宸鸿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01B1/24 | 分类号: | H01B1/24;H01B13/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 王玉双 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磺化 高分子 石墨 纳米 复合材料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种磺化高分子/石墨烯纳米复合材料,其特征在于,包括石墨烯和均匀分散在所述石墨烯层间的磺化高分子,所述石墨烯构成一导电网络。
2.根据权利要求1所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料,其特征在于,所述磺化高分子为带有磺酸根链段的高分子。
3.根据权利要求2所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料,所述磺化高分子选自磺化聚酰亚胺、磺化聚二乙炔、磺化聚乙烯醇中的一种。
4.根据权利要求1所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料,其特征在于,所述石墨烯在所述磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的重量百分比为0.1%~1%。
5.一种磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
将氧化石墨烯与磺化高分子在溶剂中混合得到混合溶液;及
往所述混合溶液中加入还原剂进行还原反应得到磺化高分子/石墨烯纳米复合材料,所述磺化高分子/石墨烯纳米复合材料包括石墨烯和均匀分散在所述石墨烯层间的磺化高分子。
6.根据权利要求5所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,所述磺化高分子为带有磺酸根链段的高分子。
7.根据权利要求6所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,所述磺化高分子选自磺化聚酰亚胺、磺化聚二乙炔及磺化聚乙烯醇中的一种。
8.根据权利要求5所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,所述石墨烯在所述磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的重量百分比为0.1%~1%。
9.根据权利要求5所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,所述溶剂选自去离子水、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮及乙醇中的一种。
10.根据权利要求5所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯在所述混合溶液中的浓度为1mg/mL。
11.根据权利要求5所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,所述还原剂为联胺。
12.根据权利要求10所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的制备方法,其特征在于,往所述混合溶液中加入还原剂进行还原反应得到磺化高分子/石墨烯纳米复合材料的步骤为:在25℃的温度下,按照所述氧化石墨烯与所述联胺为1g:5mL的比例往所述混合溶液中加入质量浓度为50%的联胺,搅拌1分钟,之后加热到100℃下回流反应2小时,分离纯化,进而得到磺化高分子/石墨烯纳米复合材料。
13.一种根据权利要求1所述的磺化高分子/石墨烯纳米复合材料在触控面板上的应用。
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